[发明专利]曝光装置及其固定方法

说明书

提供一种能够实现高曝光精度的曝光装置。曝光装置具备：排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，且所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。

技术领域

本发明涉及例如用于光刻的曝光装置，更详细地说，涉及使空间光调制元件调制后的光通过投影光学系统，将由该光产生的像成像到预定的面上的曝光装置。

背景技术

近年来，提出了一种曝光装置，利用DMD(digital mirror device：注册商标)等空间光调制元件调制的光通过投影光学系统，将由该光产生的像成像到感光材料(抗蚀剂)上进行曝光。像这样，将利用了空间光调制元件的曝光装置称为DI(direct image：直接成像)曝光装置。

DI曝光装置的曝光头具备“空间光调制元件(DMD)”、“第一投影光学系统(投影透镜)”、“微透镜阵列(MLA)”、以及“第二投影光学系统(投影透镜)”。这种DI曝光装置具有如下的构成：通过第一投影透镜将由DMD调制的光放大投影到MLA上，利用第二投影透镜将通过了MLA的光投影到预定的光照射面。在此，MLA指的是，与DMD的各像素部分别对应的微透镜根据该DMD的各像素的位置而配置成阵列状的透镜。

作为这种DI曝光装置，有例如专利文献1、专利文献2记载的技术。这些技术涉及具备DMD、第一投影透镜、MLA、以及第二投影透镜等构成要素的曝光装置，将经过了DMD的各像素部(反射镜)的光导向MLA的各微透镜。

专利文献1：日本特许第4510429号公报

专利文献2：日本特开2005-189403号公报

但是，在DI曝光装置中，DMD的更换频度较高，需要每次进行DMD的反射镜和与其对应的MLA的透镜的对位。另外，虽然频度比DMD低，但为了将光照射面上的投影像设为期望的位置和方向，也需要进行MLA的对位。而且，期望在这样的对位之后，将DMD、MLA的位置固定。

但是，由于对位需要高精度，所以用于固定DMD、MLA的位置的作业(例如拧紧螺钉)而产生了无法忽视的位移时，不能实现高曝光精度。在上述专利文献1、专利文献2中没有提出任何关于抑制这种位移而将DMD、MLA的位置固定的构造和方法。

发明内容

本发明的课题在于，提供一种能够实现高曝光精度的曝光装置。另外，本发明的课题在于，提供一种能够应用于该曝光装置的固定方法。

为了解决上述课题，本发明的曝光装置的一个方式，具备；排列元件，光学元件被排列成二维状；保持体，保持所述排列元件；投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，所述保持体固定在该被固定部上；固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及凹部，用于将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。根据这种曝光装置，使用凹部将保持体吸附固定之后，利用固定器具进行固定，所以能够抑制伴随固定作业产生的保持体的位移(进而，排列元件的位移)。其结果，能够实现由被高精度地对位的排列元件的高曝光精度。

另外，在所述曝光装置中，优选所述排列元件通过将反射型或者透射型光学元件排列而成，所述投影光学系统将由所述排列元件反射或透射的光成像。

排列元件是反射型或透射型时，排列元件的位移通过后段的投影光学系统等给曝光装置的曝光精度带来很大影响，所以通过如上所述的位移的抑制，曝光精度有效提高。