[发明专利]光阻剥离组合物和剥离方法，平板、平板显示器及其制法

说明书

本申请公开了一种包含噁唑烷‑5‑基甲胺或六氢嘧啶‑5‑醇的光阻剥离组合物，使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法，用于显示器的平板及其制造方法，以及平板显示器及其制造方法。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2014年3月21日递交的韩国专利申请号KR 10-2014-0033222和于2014年3月21日递交的韩国专利申请号KR 10-2014-0033223的利益，这两篇专利申请通过引用整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及光阻剥离组合物及使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法，用于显示器的平板(flat panel)及其制造方法，以及平板显示器及其制造方法。

背景技术

最近，随着对于实现高分辨率平板显示器的需求的增加，已经持续努力地增加每单位面积上的像素的数量。根据这样的趋势，需要减小布线的宽度，并且响应于该需求，引入了干法蚀刻工艺，并且工艺条件正变得更加严格。

进一步地，因为平板显示器的尺寸变得较大，需要提高布线中的信号速度，因此具有的比电阻低于铝的比电阻的铜在实际中用作布线材料。响应于该趋势，还需要提高在去除光阻的剥离工艺中使用的光阻剥离液的性能。

特别需要高水平地去除在干法蚀刻工艺之后存在的蚀刻残渣，并且高水平地防止金属布线的腐蚀。具体的，需要铜的抗腐蚀性以及铝的抗腐蚀性，并且，为了确保价格竞争力、经济效率，还需要如增加要被处理的基板的数量等等。

通常，为了去除光刻胶，使用水溶性的有机胺(诸如单乙醇胺、单异丙醇胺等)和有机溶剂(诸如γ-丁内酯和DMSO等)。进一步地，为了抑制由胺引起的金属的腐蚀，通常使用几种类型的腐蚀抑制剂，诸如邻苯二酚、间苯二酚、苯并三唑等，并且已经提出了含有这些腐蚀抑制剂的光刻胶剥离组合物。

响应于上述需求，已经开发了新的技术。例如，用于剥离的组合物，包含具有特定结构的酰胺化合物。但是，这样的组合物由于对铜布线不具有腐蚀抑制效果，因此是存在问题的。

[引用列表]

[专利文献]

(专利文件1)韩国专利申请号10-1213735。

发明内容

因此，设计本发明以解决上述问题，并且本发明的目的是提供一种光阻剥离组合物，该光阻剥离组合物可以使含铜或铝的金属布线的腐蚀最小化，并且即使在变性或交联的光阻的量很少的情况下，也能快速剥离变性或交联的光阻。

为了实现上述目的，本发明的一个方面提供了一种光阻剥离组合物，该光阻剥离组合物包含：由下面的化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺；或由下面的化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，

[化学式1]

[化学式2]

本发明的另一方面提供了一种剥离光阻的方法，该方法包括以下步骤：

(I)将导电金属膜沉积在平板显示器基板上；

(II)在所述导电金属膜上形成光阻膜；

(III)使所述光阻膜选择性地曝光；

(IV)使经曝光的光阻膜显影，以形成光阻图案；

(V)使用所述光阻图案作为掩模，蚀刻所述导电金属膜；以及

(VI)在所述蚀刻(V)之后，使用所述光阻剥离组合物，从基板剥离光阻，该光阻通过形成所述光阻图案和蚀刻所述导电金属膜而变性和固化，

其中，所述光阻剥离组合物是根据本发明的光阻剥离组合物。