[发明专利]液晶显示面板、阵列基板及其薄膜晶体管的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510136465.4 申请日: 2015-03-26
公开(公告)号: CN104766802B 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 高冬子 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L21/285;H01L27/12;H01L29/49;G02F1/1333
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示 面板 阵列 及其 薄膜晶体管 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述方法包括:

提供一基体;

在所述基体上形成第一金属层,其中所述第一金属层包括依次层叠的铝金属层、氧化铝层及钼金属层;

对所述第一金属层进行图案化以形成所述薄膜晶体管的栅电极;

在所述栅电极上依序形成栅绝缘层、半导体层及欧姆接触层;

在所述欧姆接触层上形成第二金属层;

对所述第二金属层进行图案化以形成所述薄膜晶体管的源电极和漏电极,其中,所述第二金属层也包括依次层叠的所述铝金属层、所述氧化铝层及所述钼金属层。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述欧姆接触层上形成第一金属层的步骤包括:

采用等离子体轰击铝靶材,以将铝溅射于所述基体上;

通入氧气,使得所述铝在溅射时发生氧化反应形成氧化铝层;

在所述氧化铝层上形成所述钼金属层。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

在由所述源电极和所述漏电极组成的源漏电极层上形成钝化层;

在所述钝化层上形成接触孔以暴露所述源电极或所述漏电极;

在所述钝化层上形成像素电极,且所述像素电极通过所述接触孔与所述源电极和所述漏电极中的一个电连接。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,通过干法刻蚀的方式形成所述接触孔。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基体包括衬底板材以及形成于所述衬底板材上的氧化层。

6.一种由权利要求1-5中任一所述制造方法制造的阵列基板,包括基体以及形成于所述基体上的薄膜晶体管阵列及像素电极,其特征在于,所述薄膜晶体管的栅电极包括依次层叠的铝金属层、氧化铝层及钼金属层,所述像素电极通过接触孔与所述薄膜晶体管的源电极和漏电极中的一个电连接,其中所述源电极和所述漏电极包括依次层叠的所述铝金属层、所述氧化铝层、所述钼金属层。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,所述薄膜晶体管还包括形成于所述栅电极上的栅绝缘层、形成于所述栅绝缘层上的半导体层、形成于所述半导体层上的欧姆接触层,所述源电极和所述漏电极形成于所述欧姆接触层上。

8.一种液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板包括权利要求6-7任意一项所述的阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510136465.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top