[发明专利]计量图案布局及其使用方法

权利要求书

1.一种电路图案结构，包括：

用于电路结构的计量图案布局，包括有利于布置多个计量图案的多个象限，包括：

第一象限，用于第一晶圆测量图案；

第二象限，用于第二晶圆测量图案；

第三象限，用于光罩对位图案；以及

第四象限，用于光罩测量图案；

其中，该多个象限的布置有利于将自该第一及第二晶圆测量图案获得的数据与自该光罩测量图案及该光罩对位图案获得的数据关联。

2.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该第一象限相对该第二象限呈对角设置，以及该三象限相对该第四象限呈对角设置。

3.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该第一象限的布置部分地经设计用以将该光罩对位图案与该多个计量图案中的其它计量图案隔离，以于计量工具扫描时最大限度地降低该光罩对位图案的失真。

4.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该第四象限包括该光罩测量图案，该光罩测量图案包括多个结构元件，其中，至少一个结构元件为至少一个最外结构元件，该至少一个最外结构元件经设计以在光学邻近校正过程中保护该多个结构元件免受修改。

5.如权利要求4所述的电路图案结构，其中，该至少一个最外结构元件具有至少一个尺寸维数大于该光罩的预定义临界维数。

6.如权利要求5所述的电路图案结构，其中，该至少一个尺寸维数比该光罩的该预定义临界维数大两倍。

7.如权利要求4所述的电路图案结构，其中，该至少一个最外结构元件是多个最外结构元件中的一个最外结构元件。

8.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该多个象限的至少其中一个还有利于布置两个计量图案，其中，该第一计量图案对应双重图案化制程的第一曝光层，以及该第二计量图案对应该双重图案化制程的第二曝光层，该两个计量图案有利于该双重图案化制程的覆盖计量(overlay metrology)。

9.如权利要求8所述的电路图案结构，其中，该第四象限包括第一光罩测量图案以及第二光罩测量图案，该第一光罩测量图案包括具有至少一个第一最外结构元件的多个第一结构元件，该至少一个第一最外结构元件经设计以在光学邻近校正过程中保护该多个第一结构元件免受修改，以及该第二光罩测量图案包括具有至少一个第二最外结构元件的多个第二结构元件，该至少一个第二最外结构元件经设计以在光学邻近校正过程中保护该多个第二结构元件免受修改。

10.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该计量图案布局是经设计用于电路结构设计的第一金属层的第一计量图案布局，以及其中，该第一计量图案布局可旋转90°以提供用于该电路结构设计的第二金属层的第二计量图案布局。

11.如权利要求1所述的电路图案结构，其中，该计量图案布局还包括与该多个象限的其中一个或多个相邻的划线区，该划线区有利于布置一个或多个额外计量图案。

12.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该划线区为方形划线区，该方形划线区至少部分形成该图案布局的边界，以及其中，该多个象限设于该方形划线区内。

13.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该划线区包括十字形划线区，该十字形划线区居中设于该图案布局内，以及其中，该划线区隔开该多个象限。

14.如权利要求13所述的电路图案结构，其中，该十字形划线区还包括中心区，该中心区包括图案识别计量图案、双重图案化覆盖计量图案或其组合。

15.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该一个或多个额外计量图案为一个或多个双重图案化覆盖计量图案。

16.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该一个或多个额外计量图案为一个或多个金属层覆盖计量图案。

17.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该一个或多个额外计量图案为一个或多个导孔层计量图案。

18.如权利要求11所述的电路图案结构，其中，该计量图案布局包括确定的表面积，该确定的表面积包括该多个象限及该划线区的表面积，该确定的表面积有利于在光罩图案的主动区内或晶圆图案的主动区内设置该结构。