[发明专利]阵列基板及其制备方法、液晶面板

说明书

本发明公开了一种阵列基板，包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的多个像素结构，所述像素结构包括透光区域和非透光区域，其中，所述非透光区域包括依次形成于所述玻璃基板上的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极/漏极和钝化层；所述透光区域包括直接形成在所述玻璃基板上的像素电极，所述像素电极延伸至所述非透光区域上，并且与所述源极或所述漏极电性连接。本发明还公开了如上所述阵列基板的制备方法以及包含该阵列基板的液晶面板。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制备方法，还涉及包含该阵列基板的液晶面板。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)，为平面超薄的显示设备，液晶面板是液晶显示器的重要组成部分。常用的液晶面板至少包括相对设置的阵列基板(arraysubstrate)和滤光基板(color filter substrate)以及位于阵列基板和滤光基板之间的液晶层。

阵列基板通常包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的多个像素结构。图1为现有的一种阵列基板的结构示意图，图中仅示例性的示出了其中的一个像素结构。如图1所示的，该像素结构1包括透光区域1a和非透光区域1b，其中非透光区域1b包括依次形成于玻璃基板2上的栅极3、栅极绝缘层4、有源层5、欧姆接触层6、源极/漏极7a、7b和钝化层8；透光区域1a包括依次形成于玻璃基板2上的栅极绝缘层4、钝化层8和像素电极9，像素电极9延伸至非透光区域1b上，通过过孔8a与源极或漏极7a、7b电性连接。

在液晶显示装置中，背光源发出的光要依次经过偏光片、玻璃基板、液晶层、彩色滤光片等等的吸收和折射，最终的透光率一般在6％左右，增加光线的透过率是提高背光源利用率的有效途径。在如上结构的阵列基板中，如图1所示的，在像素结构1的透光区域1a中，像素电极9与玻璃基板2之间还包括栅极绝缘层4和钝化层9。在阵列基板中，栅极绝缘层4和钝化层9只要是为了间隔非透光区域1b中不同层别的金属层，但是对于透光区域1a中的像素电极9与玻璃基板2，栅极绝缘层4和钝化层9却是多余的，还会因吸收和折射导致损失部分光，从而降低了光线的透过率，降低了背光源的利用率。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明首先提供了一种阵列基板及其制备方法，通过对阵列基板中的像素结构进行改进，提高了像素结构中透光区域的光线透过率，提高了背光源的利用率。

为了实现上述目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种阵列基板，包括玻璃基板以及形成在所述玻璃基板上的多个像素结构，所述像素结构包括透光区域和非透光区域，其中，所述非透光区域包括依次形成于所述玻璃基板上的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极/漏极和钝化层；所述透光区域包括直接形成在所述玻璃基板上的像素电极，所述像素电极延伸至所述非透光区域上，并且与所述源极或所述漏极电性连接。

其中，所述钝化层上设置有一过孔，所述像素电极通过所述过孔与所述源极或所述漏极电性连接。

其中，所述有源层与所述源极/漏极之间还设置有欧姆接触层。

其中，所述栅极绝缘层的材料为SiN_x或SiO_x。

其中，所述钝化层的材料为SiN_x或SiO_x。

如上所述的阵列基板的制备方法，包括步骤：

S10、在玻璃基板上制备栅极；

S20、在经过步骤S10之后的玻璃基板上依次制备栅极绝缘层薄膜、有源层、欧姆接触层、以及源极/漏极，其中所述栅极绝缘层薄膜覆盖所述像素结构的透光区域和非透光区域；

S30、在经过步骤S20之后的玻璃基板上制备钝化层薄膜，其中所述钝化层薄膜覆盖所述像素结构的透光区域和非透光区域；