[发明专利]一种3.46微米窄带滤光片及其制作方法

权利要求书

1.一种3.46微米窄带滤光片，包括基板，位于所述基板两侧表面的正面膜系与反面膜系，其特征在于：所述基板的材质为JGS3型号的光学石英玻璃，其表面质量大于60/40；所述正面膜系与反面膜系均由镀膜材料SiO2和Si交替沉积而成并分别形成交替的SiO2层与Si层；

所述正面膜系由内而外依次由Si层与SiO2层交替沉积共17层，其中包括9层Si层与8层SiO2层，即最内层及最外层均为Si层，最内层的Si层直接沉积在所述基板的正表面；所述反面膜系由内而外依次由Si层与SiO2层交替沉积共23层，其中包括12层Si层与11层SiO2层，即最内层及最外层均为Si层，最内层的Si层直接沉积在所述基板的反表面。

2.根据权利要求1所述的一种3.46微米窄带滤光片，其特征在于，所述正面膜系由内而外由Si层及SiO2层交替沉积而成，其由内而外的厚度分别为Si层112nm、SiO2层722nm、Si层490nm、SiO2层574nm、Si层245nm、SiO2层574nm、Si层245nm、SiO2层574nm、Si层490nm、SiO2层574nm、Si层245nm、SiO2层574nm、Si层245nm、SiO2层574nm、Si层490nm、SiO2层574nm、Si层245nm。

3.根据权利要求1所述的一种3.46微米窄带滤光片，其特征在于，所述反面膜系由内而外由Si层及SiO2层交替沉积而成，其由内而外的厚度分别为Si层42.99nm、SiO2层247.47nm、Si层94.72nm、SiO2层175.8nm、Si层128.06nm、SiO2层237.84nm、Si层95.1nm、SiO2层242.98nm、Si层53.6nm、SiO2层238.03nm、Si层113.67nm、SiO2层316.57nm、Si层141.11nm、SiO2层372.4nm、Si层145.6nm、SiO2层341.72nm、Si层151.05nm、SiO2层395.08nm、Si层144.14nm、SiO2层294.69nm、Si层170.11nm、SiO2层443.53nm、Si层44.48nm。

4.一种如权利要求1至3任一项所述的3.46微米窄带滤光片的制备方法，其特征在于，步骤如下：

以JGS3型号的光学石英玻璃为基板，以SiO2和Si为镀膜材料，采用电子束蒸发真空镀方式，在真空度＜10-3pa、温度＜250℃的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式控制，监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于