[发明专利]显示基板的制备方法、显示基板半成品以及显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制备方法，所述显示基板划分为显示区和非显示区，该制备方法包括在所述显示区和所述非显示区形成有机材料层的步骤，其特征在于，还包括：

在形成所述有机材料层之前，在所述非显示区形成辅助层，所述辅助层具有如下性质：所述辅助层受热后性能发生变化，使得所述有机材料层与所述辅助层对应的部分变得容易剥离；

以及，采用热方法去除所述有机材料层与所述辅助层对应的部分。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述辅助层由受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差的材料形成；所述辅助层受热后性能发生变化包括：所述辅助层受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差。

3.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述有机材料层之前，还包括形成薄膜晶体管层以及在所述薄膜晶体管层上方形成像素限定层的步骤，所述薄膜晶体管层包括位于所述显示区的多个薄膜晶体管并且所述薄膜晶体管层延伸至所述非显示区，所述显示区的所述有机材料层形成在所述像素限定层内以形成有机电致发光二极管；

所述辅助层包括第一辅助层和/或者第二辅助层，所述第一辅助层采用吸热性材料形成，形成于所述非显示区的所述薄膜晶体管层的下方；所述第二辅助层采用高分子热塑性材料或者热膨胀性材料形成，形成于所述非显示区的所述像素限定层的上方。

4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，形成所述薄膜晶体管层的步骤包括：形成包括栅极和栅线、有源层、源极和漏极的图形，所述栅极和所述栅线由同一栅金属材料层通过构图工艺形成，所述有源层图形、所述源极和所述漏极图形依次形成于所述栅极和栅线的上方。

5.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述像素限定层在所述显示区内形成网格形状，形成所述有机电致发光二极管的步骤至少包括：形成位于所述像素限定层网格内的第一电极层的图形、覆盖在所述像素界定层上方的第二电极层以及位于所述第一电极层的图形和所述第二电极层之间的发光层的图形，所述第一电极层与薄膜晶体管电连接。

6.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述吸热性材料包括吸热性强的金属或者吸热性强的金属氧化物，其中，吸热性强的金属包括黑钛、黑铬、黑钴，吸热性强的金属氧化物包括铝氧化物。

7.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述高分子热塑性材料包括PP、PE、PVC，所述热膨胀性材料包括锌、铅、镁、铝或者以上至少一种金属的合金。

8.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述有机材料层采用连续打印或者涂布方式同时形成于所述显示区和所述非显示区，所述有机材料层包括构成所述有机电致发光二极管的至少一种有机材料。

9.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述第一辅助层采用构图工艺形成在所述非显示区的所述薄膜晶体管层的下方，所述第二辅助层采用粘性介质黏贴于所述非显示区的所述像素限定层的上方。

10.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，采用热方法去除所述有机材料层与所述辅助层对应的部分包括：采用光照法、热弹力法或者热消融法对该所述显示基板进行加热。

11.一种显示基板半成品，所述显示基板划分为显示区和非显示区，所述显示区和所述非显示区设置有有机材料层，其特征在于，在所述非显示区设置有辅助层，所述辅助层具有如下性质：所述辅助层受热后性能发生变化，使得所述有机材料层与所述辅助层对应的部分变得容易剥离。

12.根据权利要求11所述的显示基板半成品，其特征在于，所述辅助层由受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差的材料形成；所述辅助层受热后性能发生变化包括：所述辅助层具有受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差的性质。