[发明专利]显示基板的制备方法、显示基板半成品以及显示装置

说明书

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板半成品以及显示装置。

背景技术

有机电致发光二极管(OLED，或者称有机发光二极管)技术一直被认为是最具有竞争力的下世代发光及显示技术之一。然而，在显示装置的应用方面，从1996年Pioneer发表的PLOLED显示装置商品化以来，OLED显示装置在大型化及量产化方面遭遇极强的挑战。重大挑战包括：主动矩阵的TFT背板以及有机材料的制程及封装问题。对于有机材料制程，目前主要有蒸镀制程和溶液制程。在面对大型化基板时，真空热蒸镀技术面临极大缺陷，如遮光板极易受工艺流程中的高温环境影响而发生偏移，导致难以在基板上保持均匀的沉积率；而喷墨印刷技术可以通过液态有机材料的均匀沉积形成薄膜层，因此理论上可以更好地解决大尺寸的问题。

喷墨印刷包括连续印刷和非连续印刷。连续印刷方式属于无光罩、无接触式的制程，优点在于逐次印刷，因为口径比较大，可以连续稳定地喷出墨水而不易堵塞喷嘴，良率高，易于大型化的同时Ink(墨水)组成自由度大；缺点在于连续打印(或者说印刷)制程需要额外将非显示区(也称除外区，显示区以外的部分)部分做材料清洁，这是其制程限制所在。另外，较为成熟的涂布技术也可以应用在显示领域，该技术同样也存在非显示区清洁的问题。

针对显示基板非显示区的有机材料清洁问题目前可能采用的方法包括Plasma干刻法、laser清洁法、擦拭法等，但以上方法对于常规的基板总存在一些问题，如由于能量太强对基板上某些结构造成伤害，或者由于能量不足或者不均清理不完全等。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示基板的制备方法、显示基板半成品以及显示装置，该显示基板的制备方法简单且易于实现，去除非显示区的有机材料的效果好，易于得到无有机材料残留的清洁的显示基板。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是该显示基板的制备方法，所述显示基板划分为显示区和非显示区，该制备方法包括在所述显示区和所述非显示区形成有机材料层的步骤，还包括：

在形成所述有机材料层之前，在所述非显示区形成辅助层，所述辅助层具有如下性质：所述辅助层受热后性能发生变化，使得所述有机材料层与所述辅助层对应的部分变得容易剥离；

以及，采用热方法去除所述有机材料层与所述辅助层对应的部分。

优选的是，所述辅助层由受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差的材料形成；所述辅助层受热后性能发生变化包括：所述辅助层受热温度升高或者受热产生形变或者受热粘性变差。

优选的是，在形成所述有机材料层之前，还包括形成包括在所述显示区的多个薄膜晶体管并延伸至所述非显示区的薄膜晶体管层，以及在所述薄膜晶体管层上方形成像素限定层的步骤，所述显示区的所述有机材料层形成在所述像素限定层内以形成有机电致发光二极管；

所述辅助层包括第一辅助层和/或者第二辅助层，所述第一辅助层采用吸热性材料形成，形成于所述非显示区的所述薄膜晶体管层的下方；所述第二辅助层采用高分子热塑性材料或者热膨胀性材料形成，形成于所述非显示区的所述像素限定层的上方。

优选的是，形成所述薄膜晶体管层的步骤包括：形成包括栅极和栅线、有源层、源极和漏极的图形，所述栅极和所述栅线由同一栅金属材料层通过构图工艺形成，所述有源层图形、所述源极和所述漏极图形依次形成于所述栅极和栅线的上方。

优选的是，所述像素限定层在所述显示区内形成网格形状，形成所述有机电致发光二极管的步骤至少包括：形成位于所述像素限定层网格内的第一电极层的图形、覆盖在所述像素界定层上方的第二电极层以及位于所述第一电极层的图形和所述第二电极层之间的发光层的图形，所述第一电极层与薄膜晶体管电连接。

优选的是，所述吸热性材料包括吸热性强的金属或者吸热性强的金属氧化物，其中，吸热性强的金属包括黑钛、黑铬、黑钴，吸热性强的金属氧化物包括铝氧化物。

优选的是，所述高分子热塑性材料包括PP、PE、PVC，所述热膨胀性材料包括锌、铅、镁、铝或者以上至少一种金属的合金。

优选的是，所述有机材料层采用连续打印或者涂布方式同时形成于所述显示区和所述非显示区，所述有机材料层包括构成所述有机电致发光二极管的至少一种有机材料。

优选的是，所述第一辅助层采用构图工艺形成在所述非显示区的所述薄膜晶体管层的下方，所述第二辅助层采用粘性介质黏贴于所述非显示区的所述像素限定层的上方。