[发明专利]涂布机

权利要求书

1.一种涂布机，包括第一机架及设置于第一机架上的涂布头，其特征在于，所述涂布机还包括：

设置光学检测系统的第二机架，所述光学检测系统用于检测基板表面状况；

驱动机构，与所述第二机架连接，用于在所述涂布头沿第一方向移动进行涂布的过程中，驱动所述第二机架在所述第一机架之后同时沿第一方向动作，所述光学检测系统对所述涂布头所涂布后的基板表面薄膜层进行检测。

2.如权利要求1所述的涂布机，其特征在于，所述第一机架与所述第二机架为一体连接，所述第一机架与所述第二机架沿所述第一方向移动的速度相同。

3.如权利要求1所述的涂布机，其特征在于，所述光学检测系统通过检测发射至基板表面薄膜层的光线经基板表面薄膜层反射后的反射光的光强，判断基板表面薄膜层状况。

4.如权利要求3所述的涂布机，其特征在于，所述涂布头沿垂直于所述第一方向的第二方向上具有一涂布宽度，所述光学检测系统包括：

发光光源，在所述第二方向上的照射范围与所述涂布头在所述第二方向上的涂布宽度对应，所述发光光源用于朝涂布后基板表面薄膜层发射光线；

光信号接收器，用于接收经基板表面薄膜层反射后的反射光线；

信号分析装置，用于根据所述光信号接收器所接收的反射光线，判断涂布后基板表面薄膜层是否存在不良。

5.如权利要求3所述的涂布机，其特征在于，所述涂布头沿垂直于所述第一方向的第二方向上具有一涂布宽度，所述光学检测系统包括：

发光光源，用于发射光线；

反光棱镜，用于接收发光光源所发射光线，并将发射光线朝涂布后基板表面薄膜层反射，获得第一反射光线，其中所述第一反射光线在所述第二方向上的照射范围与所述涂布头在所述第二方向上的涂布宽度对应；所述反光棱镜还用于接收所述第一反射光线到达涂布后基板表面薄膜层之后，经基板表面薄膜层反射的第二反射光线，并将第二反射光线再次反射，获得第三反射光线；

光信号接收器，用于接收所述第三反射光线；

信号分析装置，用于根据所述光信号接收器所接收的所述第三反射光线，判断涂布后基板表面薄膜层是否存在不良。

6.如权利要求5所述的涂布机，其特征在于，所述涂布头、所述发光光源和所述反光棱镜相互平行，沿所述第二方向分别具有延伸长度。

7.如权利要求4或5所述的涂布机，其特征在于，

所述光信号接收器与所述涂布头平行设置，且在第二方向上的宽度与所述涂布头在第二方向上的涂布宽度对应。

8.如权利要求7所述的涂布机，其特征在于，所述光信号接收器形成为沿所述第二方向上设置的一体结构或者包括多个光信号接收单元，沿所述第二方向依次间隔排列。

9.如权利要求4或5所述的涂布机，其特征在于，所述信号分析装置包括：

坐标定位器件，用于计算所述光信号接收器所接收反射光线相对于涂布基板的位置坐标；

光强比较器件，用于将待检测位置坐标处所对应的反射光线与其他位置坐标处的反射光线进行比较，当判断待检测位置坐标处的反射光线与其他位置坐标处的反射光线不同时，则确定待检测位置坐标处基板表面存在不良。

10.如权利要求2所述的涂布机，其特征在于，所述驱动机构还用于驱动所述第一机架带动所述涂布头沿第一方向移动进行涂布过程。

11.如权利要求4或5所述的涂布机，其特征在于，所述发光光源所发出光的波长范围为577至597纳米。