[发明专利]涂布机

说明书

技术领域

本发明涉及显示器制作技术领域，尤其是指一种涂布机。

背景技术

随着显示技术的发展，大尺寸、高品质、低成本成为显示器技术发展的趋势。彩色滤光片作为薄膜晶体管液晶显示器TFT-LCD的主要组成，很大程度影响着产品的成本。在大尺寸彩色滤光片的制程中，狭缝Slit涂布方式为必不可少的制程工艺，各膜层的制作工序由各种光刻胶涂覆于玻璃基板并经曝光工艺形成，因此各膜层的厚度决定了彩色滤光片的成本。

随着低成本的需求以及光刻胶制作技术的发展，彩色滤光片制作中各膜层的厚度正不断地减小；另一方面，为提高产能，各工序制作中涂布机需要高速涂布对应(>200mm/sec)。通常地，膜厚越厚，高速涂布更易对应；反之，膜厚降低时，低速涂布更易对应。

对于Slit涂布方式，高速涂布中，当涂布头(Nozzle)堵塞，Nozzle外部污染，或是涂布速度与膜厚匹配不好时，极易出现线状不良(竖线姆拉Mura)和破膜的情况，一旦发生将在生产中批量出现。

在目前的大尺寸产线结构中，通常设置独立于涂布机的图像检测装置来检测涂布机的涂布情况。然而，由于涂布过程与检测过程在不同机位完成，涂布基板需经过减压干燥后方能进入图像检测装置，因此当Mura发现涂布不良时已经有10片左右的基板出现了异常，由此会由于检测不及时带来不小的损失。

发明内容

本发明技术方案的目的是提供一种涂布机，用于解决现有技术显示器制作的涂布工序中，涂布过程检测不及时造成涂布不良基板出现，对显示器的制作造成损失的问题。

本发明提供一种涂布机，包括第一机架及设置于第一机架上的涂布头，其中所述涂布机还包括：

设置光学检测系统的第二机架，所述光学检测系统用于检测基板表面状况；

驱动机构，与所述第二机架连接，用于在所述涂布头沿第一方向移动进行涂布的过程中，驱动所述第二机架在所述第一机架之后同时沿第一方向动作，所述光学检测系统对所述涂布头所涂布后的基板表面薄膜层进行检测。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述第一机架与所述第二机架为一体连接，所述第一机架与所述第二机架沿所述第一方向移动的速度相同。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述光学检测系统通过检测发射至基板表面薄膜层的光线经基板表面薄膜层反射后的反射光的光强，判断基板表面薄膜层状况。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述涂布头沿垂直于所述第一方向的第二方向上具有一涂布宽度，所述光学检测系统包括：

发光光源，在所述第二方向上的照射范围与所述涂布头在所述第二方向上的涂布宽度对应，所述发光光源用于朝涂布后基板表面薄膜层发射光线；

光信号接收器，用于接收经基板表面薄膜层反射后的反射光线；

信号分析装置，用于根据所述光信号接收器所接收的反射光线，判断涂布后基板表面薄膜层是否存在不良。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述涂布头沿垂直于所述第一方向的第二方向上具有一涂布宽度，所述光学检测系统包括：

发光光源，用于发射光线；

反光棱镜，用于接收发光光源所发射光线，并将发射光线朝涂布后基板表面薄膜层反射，获得第一反射光线，其中所述第一反射光线在所述第二方向上的照射范围与所述涂布头在所述第二方向上的涂布宽度对应；所述反光棱镜还用于接收所述第一反射光线到达涂布后基板表面薄膜层之后，经基板表面薄膜层反射的第二反射光线，并将第二反射光线再次反射，获得第三反射光线；

光信号接收器，用于接收所述第三反射光线；

信号分析装置，用于根据所述光信号接收器所接收的所述第三反射光线，判断涂布后基板表面薄膜层是否存在不良。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述涂布头、所述发光光源和所述反光棱镜相互平行，沿所述第二方向分别具有延伸长度。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述光信号接收器与所述涂布头平行设置，且在第二方向上的宽度与所述涂布头在第二方向上的涂布宽度对应。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述光信号接收器形成为沿所述第二方向上设置的一体结构或者包括多个光信号接收单元，沿所述第二方向依次间隔排列。

优选地，上述所述的涂布机，其中所述信号分析装置包括：

坐标定位器件，用于计算所述光信号接收器所接收反射光线相对于涂布基板的位置坐标；