[发明专利]一种常压合成高熔点聚碳硅烷的方法有效
申请号: | 201510194197.1 | 申请日: | 2015-04-23 |
公开(公告)号: | CN104788681B | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 王浩;王军;简科;邵长伟;王小宙;苟燕子;薛金根 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | C08G77/60 | 分类号: | C08G77/60 |
代理公司: | 长沙星耀专利事务所(普通合伙)43205 | 代理人: | 张慧,宁星耀 |
地址: | 410073 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 常压 合成 熔点 硅烷 方法 | ||
1.一种常压合成高熔点聚碳硅烷的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在高纯氮气的保护下,将固体粉末状原料聚二甲基硅烷在360℃以上氮气气氛中裂解转化成液态聚硅烷;
(2)往步骤(1)所得液态聚硅烷中添加相当于液态聚硅烷重量5~25%的聚甲基氢硅烷,在高纯氮气保护下,升温至220~230℃反应4~6h,然后按0.2℃/min的速度升温至420~440℃,反应6~8h,得粗产品;
(3)将步骤(2)所得粗产品经二甲苯溶解,再过滤,滤液在350~360℃进行蒸馏,冷却后即得浅黄色树脂状聚碳硅烷先驱体。
2.根据权利要求1所述的常压合成高熔点聚碳硅烷的方法,其特征在于,所述步骤(2)中,添加相当于液态聚硅烷重量12-15%的聚甲基氢硅烷。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学,未经中国人民解放军国防科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510194197.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。