[发明专利]一种常压合成高熔点聚碳硅烷的方法有效

专利信息
申请号: 201510194197.1 申请日: 2015-04-23
公开(公告)号: CN104788681B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 王浩;王军;简科;邵长伟;王小宙;苟燕子;薛金根 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: C08G77/60 分类号: C08G77/60
代理公司: 长沙星耀专利事务所(普通合伙)43205 代理人: 张慧,宁星耀
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 常压 合成 熔点 硅烷 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种聚碳硅烷的合成方法,尤其是涉及一种常压合成高熔点聚碳硅烷的方法。

背景技术

随着航空、航天、兵器、能源等高技术的发展,对高温热结构材料提出了越来越高的要求。传统的金属材料和高分子材料已很难满足这些应用要求。近几年来,以Cf/SiC、SiCf/SiC为代表的纤维增强碳化硅基复合材料,由于可以在高温下保持高强度、高模量的特性,同时质量远小于金属和合金材料,已经在航空、航天、汽车等领域得到了广泛应用。

纤维增强碳化硅基复合材料的制备,常采用先驱体转化法。所谓先驱体转化法是指,通过有机聚合物热分解转化制备陶瓷材料的方法。

在先驱体转化法制备纤维、涂层或复合材料的过程中,先驱体都是制备SiC陶瓷材料的关键,其种类和性质决定了材料的制备工艺和性质。聚碳硅烷(PCS)是最早用于制备SiC纤维的先驱体。在SiC基复合材料制备过程中,PCS也是应用最成熟、最普遍的先驱体。PCS是一种以Si-C为主链的聚合物,室温下为固体,稳定性好,可溶于四氢呋喃、二甲苯等有机溶剂,加热可熔融,具有良好的可加工性能。尤其在制备高性能SiC 纤维过程中,为了防止引入过多的氧而采用非氧气氛不熔化技术以及避免不熔化过程发生熔并现象, PCS的熔点一般应不低于250℃;在不丧失纺丝加工成型性能的前提下, PCS 的熔点越高越好。然而, 现有常压合成PCS 的熔点一般在220℃以下;由于高温下PCS很容易在合成反应过程中发生支化交联,难以获得纺丝级的高熔点PCS。所以, 通过常规延长反应时间或提高反应温度的方法来制备兼具纺丝性能的高熔点PCS 是难以实现的。

高压法和沉淀分级法是目前国内外两种较典型的制备高熔点纺丝级PCS方法。高压法是以常压高温裂解法制备的低分子量PCS为原料,在约470℃条件下经高温高压反应得到高熔点( > 250℃)的先驱体PCS;但该法对反应装置要求高,安全性较差,批量合成困难,成本较高(参见薛金根, 王应德, 宋永才等. 超高分子量聚碳硅烷的合成与表征. 现代化工, 2006, (6): 48-50)。沉淀分级法是通过对常压高温裂解法制备得到的PCS进行沉淀分级获得高熔点的聚碳硅烷组分,然后再加入适量低分子组分来调节其纺丝性能, 从而调制出高熔点具有良好纺丝性的聚碳硅烷先驱体。但沉淀分级法对溶剂脱水要求高,步骤复杂,难以实现批量制备(参见楚增勇, 刘辉, 冯春祥等. 沉淀分级法调制纺丝级高熔点聚碳硅烷. 国防科技大学学报, 2002, 24(1):39-43)。

发明内容

本发明要解决的技术问题是,克服现有技术存在的缺陷,提供一种设备、操作较简单,安全性较好,容易实现批量合成的常压合成高熔点纺丝级聚碳硅烷的方法。

本发明解决其技术问题采用的技术方案是,一种常压合成高熔点聚碳硅烷的方法,是通过以下技术方案实现的:以聚二甲基硅烷(PDMS)为原料,高温裂解生成液态聚硅烷(LPS);再以液态聚硅烷为原料,并在其中添加一定比例的聚甲基氢硅烷,采用常压高温裂解法合成高熔点PCS。

具体包括以下步骤:

(1)在高纯氮气的保护下,将固体粉末状原料聚二甲基硅烷在360℃以上氮气气氛中裂解转化成液态聚硅烷(现有技术)(参见CN102120822一种常压合成聚碳硅烷的方法);

本申请说明书中,除另有说明外,所述高纯氮气指纯度大于99.999%的氮气;

(2)往步骤(1)所得液态聚硅烷中添加相当于液态聚硅烷重量5~25%(优选12-15%)的聚甲基氢硅烷,在高纯氮气保护下,升温至220~230℃反应4~6h,然后按0.2℃/min的速度升温至420~440℃,反应6~8h,得粗产品;

(3)将步骤(2)所得粗产品经二甲苯(优选粗产品与二甲苯的质量比为1:1)溶解,再过滤,滤液在350~360℃进行蒸馏,冷却后即得浅黄色树脂状聚碳硅烷先驱体。

聚甲基氢硅烷是组成最简单的带有活性侧基的聚硅烷,其主要的结构单元为-MeSiH-。由于Si-H键的活性,直链分子很容易脱氢交联。聚甲基氢硅烷具有室温液态、分子元素组成近化学计量比等优点,在SiC先驱体方面有很好的应用潜力。但由于其分子量小,交联度低,陶瓷得率低;因此,聚甲基氢硅烷的结构缺陷决定了其不适合直接用作SiC陶瓷先驱体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学,未经中国人民解放军国防科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510194197.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top