[发明专利]一种精确测试薄型高分子涂层厚度的方法在审
申请号: | 201510204701.1 | 申请日: | 2015-04-27 |
公开(公告)号: | CN104792291A | 公开(公告)日: | 2015-07-22 |
发明(设计)人: | 温茂萍;谭凯元;王维欣;唐维;庞海燕;贺传兰;颜熹琳 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院化工材料研究所 |
主分类号: | G01B21/08 | 分类号: | G01B21/08 |
代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 | 代理人: | 谭德兵 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 精确 测试 高分子 涂层 厚度 方法 | ||
1.一种精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于它包括以下步骤:
A、样品载台的制备
选取表面经过抛光处理的硅片作为样品载台材料,然后将所述硅片裁剪为便于制备样品涂层和进行仪器测试的尺寸,即得样品载台;
B、待测样品的制备
按照与待测高分子涂层相同的制备工艺,在所述样品载台上制备高分子涂层,制备完毕后,将所述高分子涂层去除部分面积,样品载台上剩余的高分子涂层为待测样品;
C、涂层表面与样品载台表面高度差的测量
采用测试精度小于0.01nm的高精度轮廓仪扫描待测样品表面和样品载台表面的高度变化,记录高度扫描曲线;
D、待测样品厚度的计算
沿所述高度扫描曲线上的两条水平线作两条高度平行线,计算两条高度平行线之间的高度差△H,△H即为待测薄型高分子涂层样品的厚度。
2.根据权利要求1所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于所述表面经过抛光处理的硅片的表面粗糙度小于0.5nm。
3.根据权利要求1所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于所述样品载台上去除部分面积的高分子涂层后露出的样品载台表面用溶剂清洗。
4.根据权利要求3所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于所述溶剂为不溶解薄型高分子涂层的溶剂。
5.根据权利要求4所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于所述溶剂为酒精或蒸馏水。
6.根据权利要求1所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于在所述样品载台上制备高分子涂层前,先将所述样品载台的部分面积区域进行表面预处理或者遮盖,降低该区域高分子涂层与样品载台的结合强度。
7.根据权利要求6所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于在所述表面预处理是指采用硅油或不干胶涂覆样品载台的部分面积。
8.根据权利要求1或6所述的精确测试薄型高分子涂层厚度的方法,其特征在于所述部分面积为高分子涂层或样品载台的面积的至少1/3。
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