[发明专利]用于X射线/计算机断层照相术的纳米颗粒成像剂及其制造方法

权利要求书

1.一种X射线/计算机断层照相术成像剂，其包括：

a) 活性纳米颗粒芯，其中该活性纳米颗粒芯包括处于非零价状态的钽(Ta)；以及

b) 钝化纳米壳，其中所述纳米壳包括一种材料，该材料是水溶性和生物相容性的，和

c) 所述纳米壳被布置在所述纳米颗粒芯的周围，以使在聚集体中，所述活性纳米颗粒芯和所述钝化纳米壳形成芯/壳纳米颗粒，该纳米颗粒对于在X射线/计算机断层照相术中用作成像剂是可操作的。

2.根据权利要求1所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述活性纳米颗粒芯包括氧化钽。

3.根据权利要求1或2所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述活性纳米颗粒芯包括Ta₂O₅。

4.根据权利要求1或2所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述纳米颗粒的平均直径为1 nm至20 nm。

5.根据权利要求1所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述纳米壳包括选自配体、低聚物、聚合物、簇状物、碳水化合物物种、官能化的硅石及其组合的材料。

6.根据权利要求5所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述纳米壳包括选自聚乙二醇、聚乙烯亚胺、聚甲基丙烯酸酯、聚硫酸乙烯酯、聚乙烯吡咯烷酮、柠檬酸盐、苹果酸盐、乙醇酸盐、硅烷及其组合的材料。

7.根据权利要求6所述的X射线/计算机断层照相术成像剂，其中所述纳米壳包括选自二乙基磷酰乙基三乙氧基硅烷(PHS)和2-[甲氧基(聚亚乙氧基)丙基]三甲氧基硅烷(PEG硅烷550)的材料。

8.一种X射线/计算机断层照相术成像溶液，其包括权利要求1-7所述的成像剂的系综，其中所述系综的平均直径不大于10 nm。

9.一种制备X射线/计算机断层成像剂的方法，该方法包括以下步骤：

a) 提供含有钽的第一前体材料；

b) 由第一前体材料形成活性芯，该芯包括处于非零价状态的钽；

c) 提供第二前体材料；以及

d) 由第二前体材料形成钝化壳，其中所述钝化壳被布置在所述芯周围，以使所述芯和壳形成芯/壳纳米颗粒，并且所述钝化壳包括选自聚乙二醇、聚乙烯亚胺、聚甲基丙烯酸酯、聚硫酸乙烯酯和聚乙烯吡咯烷酮及其组合的聚合物。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述活性芯包括Ta₂O₅。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述第二前体材料包括可聚合的硅烷。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述钝化壳包括选自二乙基磷酰乙基三乙氧基硅烷(PHS)和2-[甲氧基(聚亚乙氧基)丙基]三甲氧基硅烷(PEG硅烷550)的材料。

13.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述第二前体包括羧酸并且所述钝化壳包括选自柠檬酸盐、乙醇酸盐和苹果酸盐的羧酸。

14.根据权利要求9或10所述的方法，还包括通过切向流式过滤、渗滤和常规过滤来选择所述纳米颗粒的平均直径的步骤。