[发明专利]涡轮分子泵

说明书

技术领域

本发明是有关于一种涡轮分子泵(turbo-molecular pump)。

背景技术

以往，在半导体制造装置或液晶制造装置等的腔室(chamber)排气时，使用有涡轮分子泵等真空泵。

涡轮分子泵的泵转子(rotor)由磁轴承非接触地支撑而进行高速旋转。泵转子与制造程序气体(process gas)等碰撞而会变为高温。因此，为了避免蠕变(creep)变形所引起的断裂，有如下情况：通过使泵转子的外表面的放射率或配置于泵转子的周围的静叶片及圆筒状定子(stator)的外表面的放射率提高，而提高泵转子的放射所产生的散热量。

近年来，在半导体制造装置或液晶制造装置的刻蚀制造程序(etching process)中，真空泵的圆筒状定子上的反应产物附着量增加，有真空泵的泵转子与反应产物接触的可能性。而且，在装置运转后短时间内需要详细检查(overhaul)。因此，要求将泵内部温度(气体接触部(gas contact part)的温度)比以往大幅提高，而抑制反应产物的附着。

作为提高泵内部温度的方法，已知有如专利文献1所记载的方法。在专利文献1所记载的发明中，对与泵转子的转子圆筒部的外周相向配置的被加热构件(相当于螺纹槽泵部的圆筒状定子)直接加热。

在如专利文献1所记载的发明中，如果将圆筒状定子或圆筒状定子的周边的构件的外表面设为高放射率，当圆筒状定子的温度高于圆筒状定子的周边的构件的温度时，会不必要地产生从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所引起的热移动。结果，有泵转子的温度上升的担忧。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利第3160504号公报

发明内容

如上所述，期望有一种涡轮分子泵，可防止圆筒状定子的反应产物的堆积，且抑制从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所产生的热的移动。

本发明的优选实施方式的涡轮分子泵的特征在于包括：泵转子，具有动叶片及转子圆筒部；静叶片，与动叶片相向；圆筒状定子，与转子圆筒部相向；基座(base)，收容圆筒状定子；以及加热部，对圆筒状定子进行加热；且圆筒状定子的外表面的放射率、以及与圆筒状定子相向的构件的外表面且为与圆筒状定子相向的外表面的放射率小于动叶片的外表面且为与静叶片相向的外表面的放射率。

根据本发明，可防止圆筒状定子的反应产物的堆积，且抑制从圆筒状定子向圆筒状定子的周边的构件的放射所产生的热的移动。

附图说明

图1是本发明的一实施方式的涡轮分子泵的剖面图。

图2(a)～图2(c)是分别表示比较例1、比较例2以及本发明的一实施方式中的涡轮分子泵的放射或传导所产生的热的移动的示意图。

图3是表示作为反应产物的一例的AlCl₃的蒸气压曲线的图。

图4是表示本发明的一实施方式、比较例1、比较例2中的各部的温度的一例的图。

【主要元件符号说明】

1、1A、1B：涡轮分子泵 10：泵转子

11：转子轴12：动叶片

12S：动叶片(下端动叶片) 13：转子圆筒部

20：基座20A：基座上部

20B：基座下部 21：静叶片

21S：静叶片(下端静叶片) 22：圆筒状定子

23：泵壳24：热传导抑制构件

26：排气口27：加热器

28：定子加热部29：隔片

32：径向磁轴承33：轴向磁轴承

34：马达35a：机械轴承

35b：机械轴承 41：隔热构件

42：隔热构件50：水冷管

201：凹部 203：温度传感器

220：凸缘部 220a：下表面

222：螺栓 280：加热器

281：部件(加热器部件) 282：螺栓

H1～H13：热 S1～S7、S3A～S3D：外表面

具体实施方式