[发明专利]一种高耐磨釉中彩陶瓷砖及其制备方法

权利要求书

1.一种高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，所述高耐磨釉中彩陶瓷砖包括印刷有图案的坯体、以及在印刷有图案的坯体上经烧成得到的透明釉层，其中，透明釉层组成包括透明基釉、以及被透明基釉包覆的高耐磨透明熔块粒子，高耐磨透明熔块粒子的细度为130目～180目，组成包括52～58wt％SiO₂、25～30wt％Al₂O₃、8～15wt％CaO、0.2～0.5 wt％MgO、1～3 wt％K₂O、0.5～2 wt％Na₂O、1～5 wt％ZnO；透明基釉的组成包括55-65wt% SiO₂、16-20wt% Al₂O₃、8-15wt% CaO、1-3wt% MgO、1-4wt% K₂O、3-5wt% Na₂O、0-5wt% ZnO；所述透明釉层还包括位于透明基釉和高耐磨透明熔块粒子之间的缓冲层，所述缓冲层由在所述烧成过程中透明基釉和高耐磨透明熔块粒子的组分相互渗透形成。

2.根据权利要求1所述的高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，透明釉层厚度0.2～0.8mm。

3.根据权利要求1所述的高耐磨釉中彩陶瓷砖，其特征在于，透明釉层含10—60wt%高耐磨透明熔块粒子。

4.一种权利要求1-3中任一所述高耐磨釉中彩陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：

将印刷有图案的坯体上喷淋透明釉层浆料后，在1150-1230℃下烧成，再经抛光后得到所述高耐磨釉中彩陶瓷砖，其中，透明釉层浆料包括10-60wt%的高耐磨透明熔块粒子、30—50wt%的透明基釉以及10—15wt%悬浮剂。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，透明基釉的粉体细度为过325目筛余0.4-0.8%。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，悬浮剂采用羧甲基纤维素钠、乙二醇和/或聚乙二醇。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，采用直线淋釉器将透明釉层浆料施加在印刷有图案的坯体上。

8.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，釉浆比重控制在1.70～1.85，流速控制在20～40s，施釉量为460—500克/平方米。

9.根据权利要求4-8中任一所述的制备方法，其特征在于，烧成时间为60-80分钟。