[发明专利]一种ZnO基薄膜晶体管型紫外探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510225980.X 申请日: 2015-05-06
公开(公告)号: CN104952967A 公开(公告)日: 2015-09-30
发明(设计)人: 潘新花;王伟豪;戴文;叶志镇 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01L31/112 分类号: H01L31/112;H01L31/0216;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 zno 薄膜晶体管 紫外 探测器 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种紫外探测器及其制备方法,尤其涉及一种ZnO基薄膜晶体管型紫外波段探测器及其制备方法,属于半导体器件技术领域。

背景技术

紫外探测技术是一项继红外探测技术和激光技术之后发展起来的新型的军民两用技术,广泛应用于空间通讯、导弹预警、污染检测以及生物医学等领域。目前市场上还是以技术较成熟的传统商用光电倍增管和硅基紫外探测器为主。未见薄膜晶体管结构的紫外探测器报道。

ZnO是一种重要的新型宽禁带半导体材料,具有直接带隙能带结构,室温禁带宽度3.37 eV,激子束缚能高达60 meV,可见光透过率高,物理化学性质稳定,原料丰富等优点。相对于传统的光电倍增管和硅基紫外探测器,基于第三代宽禁带半导体ZnO基材料的紫外探测器可避免使用复杂昂贵的滤光片,并且其具有工作电压较低、能耗较小、体积小、重量轻等优点。

发明内容

本发明的目的是提供一种制备成本低、工艺简单易于生产,且灵敏度极高的ZnO基薄膜晶体管型紫外探测器及其制备方法。

本发明的ZnO基薄膜晶体管型紫外探测器,自下而上依次有低阻Si层、SiO2绝缘层、ZTO(ZnSnO)沟道层、纳米Al颗粒层和Al电极。制备方法包括以下步骤:

1)将Zn(NO32·6H2O溶解于2-甲氧基乙醇,并添加乙酰丙酮和NH3·H2O, Zn(NO32·6H2O、乙酰丙酮与NH3·H2O的摩尔比为1:1:3,室温下搅拌至少12 h,获得A溶液;

将SnCl2·2H2O和NH4NO3溶解于2-甲氧基乙醇,并添加乙酰丙酮和NH3·H2O, SnCl2·2H2O、NH4NO3、乙酰丙酮与NH3·H2O的摩尔比为1:1: 1:1.5,室温下搅拌至少12 h,获得B溶液;

用孔径为0.21 μm的尼龙滤头分别对A溶液和B溶液进行过滤,再将过滤后的两滤液按Zn:Sn摩尔比为x:1-x混合,x=0.3~0.5,将混合溶液超声至少5次,每次20~30 min,陈化12~24 h后得到ZnxSn(1-x)O前驱体,x=0.3~0.5;

2)在洁净的电阻率为0.001~0.005 Ω·cm的低阻Si片(1)上制备厚度为150~300 nm的SiO2绝缘层(2),再在SiO2绝缘层(2)上旋涂步骤1)的ZnxSn(1-x)O前驱体,转速为3500~4500 r/min,旋涂35 s,旋涂后在200~400 ℃退火30 min,旋涂并退火若干次后在SiO2绝缘层(2)上获得厚度为20~80 nm的ZTO沟道层(3);

3)将步骤2)处理后的样品放入热蒸发设备中,抽真空至2×10-4 Pa,以纯度为99.999%的Al颗粒为蒸发源,在ZTO沟道层(3)上蒸镀厚度为1~10 nm的纳米Al颗粒层(4);

4)在上述的纳米Al颗粒层(4)上蒸镀厚度为70~100 nm的Al电极(5),获得ZnO基薄膜晶体管型紫外探测器。

本发明的ZnO基薄膜晶体管型紫外探测器的工作原理是:在一定的源漏电压下,通过控制栅极偏压使紫外探测器工作在耗尽区,此时由于采用薄膜晶体管型的特殊结构,使得紫外探测器的暗电流很小;当有紫外光照射时,沟道层的ZTO吸收紫外光产生光生载流子,形成较大的源漏电流,即形成紫外探测器的光电流,进行紫外探测。

本发明的有益效果在于:

1)通过燃烧法配制ZTO前驱体,反应内能大,后续可在低温下退火;

2)本发明的紫外探测器采用薄膜晶体管型的特殊结构,具有极小的暗电流,可以获得高于其他类型紫外探测器数百倍的灵敏度;

3)本发明的紫外探测器结构简单,其制备方法简便且成本低,在军事、民用以及一些特殊领域有重要的应用价值。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510225980.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top