[发明专利]一种EUV反射镜清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及EUV多层膜光学元件的寿命研究领域，特别提供了一种EUV反射镜清洗装置。

背景技术

目前，研究发现在EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，H⁰原子吸附在光学元件多层膜表面的浓度大小决定其清洗速率及清洗效果。因此，实现H⁰原子浓度可控并保证其均匀、快速吸附在光学元件多层膜表面是提高清洗速率及清洗效果必要条件。

以往实现EUV投影光学系统光学元件多层膜表面清洗中，没有对氢原子方向进行导向、浓度调节，实现增多/减少H⁰原子被光学元件吸收的装置。因此，研发一种能够实现上述功能的清洗装置，成为人们亟待解决的问题。

发明内容                                 

鉴于此，本发明的目的在于提供一种EUV反射镜清洗装置，以至少解决以往清洗装置无法实现对H⁰原子进行导向以及调节H⁰原子浓度等问题。

本发明提供的技术方案，具体为，一种EUV反射镜清洗装置，其包括H⁰原子发生装置1和真空腔室2，其特征在于：在所述H⁰原子发生装置1和所述真空腔室2之间依次设置有相互连通的球阀3和导向喷射池4。

优选，所述导向喷射池4包括：

导向管路41，其包括连接端411和自由端412，所述连接端411与所述球阀3连接，所述自由端412插设于所述真空腔室2内部；

连接套42，其套装于所述导向管路41外部，且所述连接套42一端与所述导向管路41的连接端411固定连接，另一端与所述真空腔室2密封连接。

进一步优选，所述导向管路41的自由端412设置有沿其径向方向延伸的反射板4121。

进一步优选，所述导向管路41由所述连接端411向所述自由端412口径逐渐递减。

进一步优选，所述导向管路41和所述反射板4121均由石英制成。

进一步优选，所述球阀3包括：

阀体31；

球体32，其转动设置于所述阀体31内部，且所述球体32上设置有贯通两侧的孔道321；

阀杆33，其与所述球体32的上端连接，所述阀杆33可驱动所述球体32相对所述阀体31进行转动，使所述球体32上的孔道321与所述阀体31的两侧管路连通/封堵。

进一步优选，所述球阀3由石英制成。

进一步优选，所述球阀3通过石英连接管5与所述H⁰原子发生装置1连接，所述石英连接管5套装于所述H⁰原子发生装置1的发射管路上，且所述石英连接管5一端与所述球阀3的阀体31连接，另一端与所述H⁰原子发生装置1的壳体密封连接。

进一步优选，所述H⁰原子发生装置1、球阀3、导向喷射池4和真空腔室2均同轴设置。

本发明提供的EUV反射镜清洗装置，在H⁰原子发生装置和真空腔室之间增设有球阀和导向喷射池，其中，通过球阀孔径大小的改变，调控H⁰原子的喷射浓度，同时再由导向喷射池进行导向，确保H⁰原子能够均匀、快速吸附在真空腔室内被清洗的光学元件多层膜表面，从而提高光学元件的清洗效果和清洗效率。

本发明提供的EUV反射镜清洗装置，具有结构简单，设计合理，使用方便，H⁰原子喷射浓度可调，光学元件清洗效果好，清洗效率高等优点。

附图说明

图1为EUV反射镜清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

下面以具体的实施方案对本发明进行进一步解释，但是并不用于限制本发明的保护范围。