[发明专利]阵列基板及制作方法、触控显示面板

说明书

本发明公开了一种阵列基板及制造方法、触控显示面板，其中阵列基板包括：基板；呈矩阵排列的多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极；第一绝缘层，位于所述薄膜晶体管之上；触控走线层，位于所述第一绝缘层之上，所述触控走线层包括多条触控走线；平坦化层，覆盖在所述触控走线层之上。本发明实施例将平坦化层覆盖在所述触控走线层之上，使触控走线之上的平坦性更好，改善经过摩擦工序后产生漏光的问题。

技术领域

本发明实施例涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种阵列基板及制作方法、触控显示面板。

背景技术

液晶显示屏，英文通称为LCD(Liquid Crystal Display)，是属于平面显示器的一种。随着科技的发展，LCD目前科技信息产品也朝着轻、薄、短、小的目标发展，无论是直角显示、低耗电量、体积小、还是零辐射等优点，都能让使用者享受最佳的视觉环境。

具有触控功能的显示器是基于功能丰富化的技术产生的，比较常见的触控技术有In-cell触控技术和On-cell触控技术。其中，In-cell触控技术是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素电路中的方法，On-cell触控技术是指将触摸功能的部分结构嵌入到彩色滤光片基板和偏光板之间的方法。由于In-cell触控技术能够使显示器更轻薄，因此更被关注。

在现有技术中，如图1所示，具有触控功能的阵列基板，依次在基板111上采用构图工艺制备多晶硅层112；涂覆栅绝缘层113；形成第一金属层，并采用构图工艺形成TFT的栅极114和扫描线；形成层间绝缘层115覆盖第一金属层的图案；形成第二金属层，并采用构图工艺形成TFT的源级116、漏极125和数据线；平坦化层118；在平坦化层118上形成第三金属层(M3)，采用构图工艺形成触控走线119；形成第一绝缘层120；在第一绝缘层120上形成触控电极121，触控电极121可复用为公共电极块；再形成第二绝缘层122；在第二绝缘层122、第一绝缘层120和平坦化层118中刻蚀形成第一过孔123，且在第二绝缘层122和第一绝缘层120中刻蚀形成第二过孔124；在第二绝缘层122上形成像素电极117，且同像素电极117通过第一过孔123连通薄膜晶体管的漏极125，采用像素电极的材料同步形成跨桥结构，通过第二过孔124将触控电极121与触控走线119进行电连接。

但是，上述制作形成的阵列基板，由于触控走线形成在平坦化层上方，这就使得位于所述触控走线之上的膜层表面不平坦，这样将对后续摩擦工序的效果产生很大的影响，其两侧容易出现漏光问题。

发明内容

本发明实施例提供一种阵列基板及制造方法、触控显示面板，通过将平坦化层覆盖在所述触控走线层之上，使触控走线之上的平坦性更好，改善了经过摩擦工序后产生漏光的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，包括：

基板；

呈矩阵排列的多个薄膜晶体管，每个所述薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极；

第一绝缘层，位于所述薄膜晶体管之上；

触控走线层，位于所述第一绝缘层之上，所述触控走线层包括多条触控走线；

平坦化层，覆盖在所述触控走线层之上。

第二方面，本发明实施例还提供一种触控显示面板，包括本发明实施第一方面所述的阵列基板；还包括与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板之间设置有液晶层。

第三方面，本发明实施例还提供一种阵列基板的制作方法，包括：

S1、在基板上形成第一金属层，在所述第一金属层上采用构图工艺形成栅极与扫描线的图案，所述扫描线沿第一方向延伸；

S2、在所述第一金属层上形成第三绝缘层；