[发明专利]一种对位曝光方法

权利要求书

1.一种对位曝光方法，其特征在于，包括一次对位曝光过程和二次对位曝光过程，其中，

所述一次对位曝光过程中在透明基板的至少一侧边缘形成多对对位标记；

所述二次对位曝光过程中使用的掩膜板的至少一侧边缘上设有一对标记孔，所述透明基板的同侧相邻两对所述对位标记相隔设定距离，且所述设定距离小于等于所述掩膜板对应侧的有效曝光区域的宽度；所述二次对位曝光过程包括多次掩膜板对位过程和多次曝光过程，在多次掩膜板对位过程中，使所述掩膜板上的一对标记孔逐一与透明基板上对应侧的各对所述对位标记对正；

所述透明基板的侧边长度是所述掩膜板有效曝光区域宽度的整数倍或非整数倍，当透明基板的侧边长度是掩膜板有效曝光区域宽度的非整数倍时,在相邻两次曝光中的第二次曝光过程中通过其他遮挡板遮住第二次曝光与第一次曝光的重合区域，以避免此重合区域重复曝光。

2.根据权利要求1所述的对位曝光方法，其特征在于，所述一次对位曝光过程中在所述透明基板的一侧边缘形成多对所述对位标记，所述二次对位曝光过程中使用的所述掩膜板的对应一侧边缘上设有一对所述标记孔；

在所述二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使所述掩膜板上的一对所述标记孔与所述透明基板上对应侧的第一对所述对位标记对正，并在完成第一次二次曝光后，使所述掩膜板上的一对所述标记孔与所述透明基板上第二对所述对位标记对正，以此类推，使所述掩膜板上的一对所述标记孔依次分别与所述透明基板对应侧边缘上的各对所述对位标记对正。

3.根据权利要求1所述的对位曝光方法，其特征在于，所述一次对位曝光过程中在所述透明基板的两侧边缘分别形成多对所述对位标记，所述二次对位曝光过程中使用的所述掩膜板的对应两侧边缘上分别设置有一对所述标记孔；

在所述二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使所述掩膜板的一侧边缘上的一对标记孔逐一与所述透明基板对应侧边缘上的各对所述对位标记对正，使所述掩膜板的另一侧边缘上的一对标记孔逐一与所述透明基板相对应的另一侧边缘上的各对所述对位标记对正。

4.根据权利要求1所述的对位曝光方法，其特征在于，所述一次对位曝光过程中在所述透明基板的四侧边缘分别形成多对所述对位标记，所述二次对位曝光过程中使用的所述掩膜板的对应四侧边缘上分别设有一对所述标记孔，

在所述二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使所述掩膜板的第一侧边缘上的一对标记孔逐一与透明基板相对应的第一侧边缘上的各对所述对位标记对正，使所述掩膜板的第二侧边缘上的一对标记孔逐一与透明基板相对应的第二侧边缘上的各对所述对位标记对正，使所述掩膜板的第三侧边缘上的一对标记孔逐一与透明基板相对应的第三侧边缘上的各对所述对位标记对正，使所述掩膜板的第四侧边缘上的一对标记孔逐一与透明基板相对应的第四侧边缘上的各对所述对位标记对正。

5.根据权利要求1～4任一项所述的对位曝光方法，其特征在于，所述对位曝光方法还包括：用于检测所述掩膜板上的一对标记孔与所述透明基板上一对所述对位标记之间是否对正的影像采集装置。

6.根据权利要求5所述的对位曝光方法，其特征在于，每个所述标记孔的上方对应设置一个所述影像采集装置。

7.根据权利要求6所述的对位曝光方法，其特征在于，在所述二次对位曝光过程的一次掩膜板对位过程中，要求有至少两个所述影像采集装置检测到对位标记与标记孔对正。