[发明专利]分析装置和校正方法

权利要求书

1.一种分析装置，其根据从颗粒状物质产生的荧光X射线进行所述颗粒状物质的成分分析，所述分析装置的特征在于，

所述分析装置包括：

照射部，照射激发X射线，所述激发X射线激发所述颗粒状物质使所述颗粒状物质产生荧光X射线；

捕集过滤器，用于捕集所述颗粒状物质；

校正用基体材料，具有基体材料以及层叠于所述基体材料的校正用试样，在执行校正时与所述捕集过滤器一起配置在所述激发X射线照射的测量区域；

检测部，能检测来自所述测量区域的X射线，执行所述校正时检测通过向所述捕集过滤器和所述校正用基体材料照射所述激发X射线而产生的校正X射线；以及

成分分析部，执行所述校正时通过向所述校正用试样照射所述激发X射线而产生的基准荧光X射线作为所述校正X射线，生成针对各测量对象元素的量程校正用数据，执行所述成分分析时根据所述量程校正用数据和所述检测部检测的X射线的测量值进行所述成分分析。

2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述捕集过滤器具有：捕集层，捕集所述颗粒状物质；以及加强层，加强所述捕集层。

3.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，

所述成分分析部将通过向所述校正用基体材料所具有的基体材料照射所述激发X射线而产生的X射线用作所述校正X射线，生成背景校正用数据，当执行所述成分分析时，根据所述背景校正用数据和所述检测部检测的X射线的测量值进行所述成分分析。

4.一种校正方法，其是分析装置的校正方法，所述分析装置根据通过向被捕集过滤器捕集到的颗粒状物质照射激发X射线而产生的荧光X射线进行所述颗粒状物质的成分分析，所述校正方法的特征在于，

所述校正方法包含以下步骤：

将校正用基体材料与所述捕集过滤器一起配置的步骤，所述校正用基体材料具有基体材料以及层叠于所述基体材料的校正用试样；

向一起配置有所述捕集过滤器和所述校正用基体材料的测量区域照射所述激发X射线的步骤；

检测通过向所述捕集过滤器和/或所述校正用基体材料照射所述激发X射线而产生的校正X射线的步骤；以及

通过向所述校正用试样照射所述激发X射线而产生的基准荧光X射线作为所述校正X射线，生成针对各测量对象元素的量程校正用数据的步骤。