[发明专利]显示基板及其制作方法以及显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

设置在相邻像素之间的黑矩阵，

所述黑矩阵的侧壁为内凹曲面；

所述黑矩阵包括：

第一绝缘层；

设置在所述第一绝缘层之上的第二绝缘层；

设置在所述第二绝缘层之上的第三绝缘层；

其中，所述第一绝缘层的刻蚀速度大于所述第二绝缘层的刻蚀速度，所述第二绝缘层的刻蚀速度大于所述第三绝缘层的刻蚀速度；

设置在所述第三绝缘层之上的遮光层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵的材料包括负性光刻胶。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：

设置在所述第一绝缘层之下的下部第二绝缘层；

设置在所述下部第二绝缘层之下的下部第三绝缘层。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，通过干刻蚀工艺刻蚀所述第一绝缘层、第二绝缘层和第三绝缘层。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，还包括：

封装层，设置在所述黑矩阵下方，用于封装有机发光二极管；

阻挡层，设置在所述黑矩阵和所述封装层之间，用于防止干刻蚀工艺对所述封装层刻蚀。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示基板，其特征在于，还包括：

吸收层，设置在所述黑矩阵之上，用于吸收有机溶剂、水和形成子像素的液体。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6中任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板制作方法，其特征在于，包括：

形成相邻像素之间的黑矩阵，使所述黑矩阵的侧壁为内凹曲面；

所述形成相邻像素之间的黑矩阵包括：

形成第一绝缘层；

在所述第一绝缘层之上形成第二绝缘层；

在所述第二绝缘层之上形成第三绝缘层；

其中，所述第一绝缘层的刻蚀速度大于所述第二绝缘层的刻蚀速度，所述第二绝缘层的刻蚀速度大于所述第三绝缘层的刻蚀速度；

在所述第三绝缘层之上形成遮光层。

9.根据权利要求8所述的显示基板制作方法，其特征在于，所述形成相邻像素之间的黑矩阵包括：

采用负性光刻胶形成黑矩阵层；

对所述黑矩阵层进行加热，以烘干所述黑矩阵层中的有机溶剂；

对所述黑矩阵层进行曝光；

对所述黑矩阵层进行显影，形成所述黑矩阵。

10.根据权利要求8所述的显示基板制作方法，其特征在于，在形成所述第一绝缘层之前还包括：

形成下部第三绝缘层；

在所述下部第三绝缘层之上形成下部第二绝缘层，

所述第一绝缘层形成于所述下部第二绝缘层之上。

11.根据权利要求10所述的显示基板制作方法，其特征在于，还包括：

在所述黑矩阵和封装层之间形成阻挡层，用于防止干刻蚀工艺对所述封装层刻蚀，

其中，所述封装层设置于所述黑矩阵下方，用于封装有机发光二极管。

12.根据权利要求8-11中任一项所述的显示基板制作方法，其特征在于，还包括：

在所述黑矩阵之上形成吸收层，用于吸收有机溶剂、水和形成子像素的液体。