[发明专利]液晶面板的亮点修补方法、装置及亮点修补后的液晶面板在审
申请号: | 201510260724.4 | 申请日: | 2015-05-20 |
公开(公告)号: | CN104849883A | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 范广宝;申智渊 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶面板 亮点 修补 方法 装置 | ||
1.一种液晶面板的亮点修补方法,其特征在于,包括:
移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述亮点修补方法还包括:在所述像素电极与公共电极之间沉积金属原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述像素电极与公共电极之间沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号的步骤具体包括:
通过分秒激光的制作工艺移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述像素电极与公共电极之间沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接的步骤具体包括:
利用激光化学气相沉积的方式在所述像素电极与所述公共电极之间形成沉积钨原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述移除像素电极与数据线桥接位置处的电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号的步骤之前还包括:
移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层的步骤具体包括:
通过分秒激光的制作工艺移除所述第一电极表面覆盖的绝缘层。
8.一种液晶面板的亮点修补装置,其特征在于,包括:移除模块,
所述移除模块用于移除像素电极与数据线桥接位置处的第一电极,以使所述数据线停止对所述像素电极输入电压信号。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述亮点修补装置还包括金属膜形成模块,所述金属膜形成模块用于在所述像素电极与公共电极之间沉积金属原子,形成金属膜,使所述像素电极与所述公共电极短接。
10.一种亮点修补后的液晶面板,所述液晶面板包括阵列基板,所述阵列基板包括多条两两绝缘相交且绝缘的扫描线和数据线,其特征在于,所述阵列基板包括至少一个像素区域,所述像素区域的像素电极与所述扫描线绝缘。
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