[发明专利]基板、掩膜板及显示装置、对位方法有效
申请号: | 201510263356.9 | 申请日: | 2015-05-21 |
公开(公告)号: | CN104808434B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 张鹏飞;骆意勇 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 掩膜板 显示装置 对位 方法 | ||
1.一种对位方法,适用于利用同一掩膜板在同一基板上形成图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层,其特征在于,包括:
当制作第一膜层时,将第一公用标记与第二公用标记对准完成所述掩膜板与所述基板对位,所述第一公用标记设置在所述基板上,所述第二公用标记设置在所述掩膜板上,与所述第一公用标记相对应;
当制作第二膜层时,先将所述第一公用标记与所述第二公用标记对准,然后利用构图设备的偏差补正功能实现所述第二膜层与所述第一膜层的图形偏差,完成所述掩膜板与所述基板对位。
2.根据权利要求1所述的对位方法,其特征在于,所述将第一公用标记与第二公用标记对准的过程还包括:利用设置在所述基板上的指引标记寻找所述第一公用标记,所述指引标记用于指示所述第一公用标记的所在位置。
3.根据权利要求2所述的对位方法,其特征在于,所述第一膜层和所述第二膜层的图形通过光刻方法制成,所述构图设备为曝光机。
4.一种权利要求1所述的对位方法中使用的基板,其特征在于,所述基板上设置有;
第一公用标记,所述第一公用标记用于在使用同一掩膜板制作图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层时对位;
指引标记,所述指引标记分布在所述第一公用标记周围,用来指示所述第一公用标记的所在位置;所述指引标记分别分布在以所述第一公用标记为交点的互相垂直的两条直线上。
5.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,指示方向相同的指引标记为一组,同一组的指引标记之间的间距在5至10毫米之间;
所述第一公用标记与第一指引标记的间距在5至10毫米之间,所述第一指引标记为每一组中距离所述第一公用标记最近的指引标记。
6.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,指示方向相同的指引标记为一组,同一组中的所述指引标记之间的间距呈现:越靠近所述第一公用标记,所述间距越小的趋势。
7.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述指引标记的形状为尖角朝向所述第一公用标记的V字形。
8.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,指示方向相同的指引标记为一组,一组中所述指引标记的数量不超过3个。
9.根据权利要求4所述的基板,其特征在于,所述指引标记的大小为所述第一公用标记的十分之一到五分之一之间。
10.一种显示装置,其特征在于,使用了权利要求4-9任一项所述的基板。
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