[发明专利]基板、掩膜板及显示装置、对位方法

说明书

本发明公开了一种基板、掩膜板及显示装置、对位方法，涉及显示领域，能够减少构图设备在工作过程中发生对位出错的概率，从而提高设备的嫁动率。本发明提供一种对位方法，适用于利用同一掩膜板在同一基板上形成图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层，包括：当制作第一膜层时，将第一公用标记与第二公用标记对准完成掩膜板与基板对位，第一公用标记设置在基板上，第二公用标记设置在掩膜板上，与第一公用标记相对应；当制作第二膜层时，先将第一公用标记与第二公用标记对准，然后利用构图设备的偏差补正功能实现第二膜层与第一膜层的图形偏差，完成掩膜板与基板对位。本发明用于改进基板上对位标记的设计。

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种基板、掩膜板及显示装置、对位方法。

背景技术

现有技术中用接近式曝光机制作彩膜基板时，一般会在制作黑矩阵的过程中，形成彩膜层的对位标记。彩膜层包括红色彩膜层、绿色彩膜层和蓝色彩膜层，因而如图1所示，彩膜层的对位标记也对应包括三套，分别用于三种彩膜层的制作时的对位过程。图中的蓝对位标记1为制作蓝色彩膜层时所使用的对位标记，绿对位标记2为制作绿色彩膜层时所使用的对位标记，红对位标记3为制作红色彩膜层时所使用的对位标记。由于这三种对位标记彼此间的区别较小，因而曝光机在利用上述的某一种对位标记进行对位时，容易将其与另外两种的对位标记相混淆，这时无法对位，曝光机发出对位出错报告，无法继续工作，需要等待人工调试，而人工调试过程耗时长，影响曝光机的嫁动率。

发明内容

本发明提供一种基板、掩膜板及显示装置、对位方法，能够降低构图设备在工作过程中发生对位出错概率，从而提高设备的嫁动率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供一种对位方法，适用于利用同一掩膜板在同一基板上形成图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层，包括：

当制作第一膜层时，将第一公用标记与第二公用标记对准完成掩膜板与基板对位，第一公用标记设置在基板上，第二公用标记设置在掩膜板上，与第一公用标记相对应；

当制作第二膜层时，先将第一公用标记与第二公用标记对准，然后利用构图设备的偏差补正功能实现第二膜层与第一膜层的图形偏差，完成掩膜板与基板对位。

优选地，将第一公用标记与第二公用标记对准的过程还包括：利用设置在基板上的指引标记寻找第一公用标记，指引标记用于指示第一公用标记的所在位置。

可选地，第一膜层和第二膜层的图形通过光刻方法制成，构图设备为曝光机。

本发明实施例还提供一种上述任一项的对位方法中使用的基板，基板上设置有第一公用标记，第一公用标记用于在使用同一掩膜板制作图形相同但不相重合的第一膜层和第二膜层时对位。

优选地，还设置有：指引标记，指引标记分布在第一公用标记周围，用来指示第一公用标记的所在位置。

更优地，指引标记分别分布在以第一公用标记为交点的互相垂直的两条直线上。

优选地，指示方向相同的指引标记为一组，同一组的指引标记之间的间距在5至10毫米之间；

第一公用标记与第一指引标记的间距在5至10毫米之间，第一指引标记为每一组中距离第一公用标记最近的指引标记。

更优地，指示方向相同的指引标记为一组，同一组中的指引标记之间的间距呈现：越靠近第一公用标记，间距越小的趋势。

优选地，指引标记的形状为尖角朝向第一公用标记的V字形。

优选地，指示方向相同的指引标记为一组，一组中指引标记的数量不超过3个。

优选地，指引标记的大小为第一公用标记的十分之一为五分之一之间。