[发明专利]瓷负型造迹的方法

权利要求书

1.一种瓷负型造迹的方法，其特征在于，在用釉料或釉料混合料进行表面塑形后的泥胎上进行剥离操作，从而留下负型痕迹。

2.根据权利要求1所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，具体步骤包括：

（100）、配料：将泥与釉料按照预定比例混合，得到所需颜色的混合泥料；

（200）、塑形：用步骤（100）所得到的混合泥料在泥胎上进行塑形，得到塑形后的产品；

（300）、干燥：将步骤（200）所得到的塑形后的产品进行干燥；

（400）、负型：按照预定需要剔除剥离步骤（300）所得到的产品的表面的泥及釉料；

（500）、烧制：最后进窑炉烧制而成瓷。

3.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（100）中，所述泥与釉料的混合比例为8:2~3。

4.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（200）中，所述混合泥料在泥胎上进行塑形后的厚度范围为0 .3cm~0.5cm。

5.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（300）中，干燥后的产品的含水率控制在5 %~8%。

6.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的，其特征在于，所述步骤（300）中，在10-42℃自然干燥。

7.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（400）中，所述泥及釉料的剥离最大宽度范围为2cm~3cm。

8.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（500）中，所述烧制温度范围为10℃~1300℃，时间范围为≥ 96时。

9.根据权利要求2所述的瓷负型造迹的方法，其特征在于，所述步骤（400）后，在产品表面上面釉料再进行烧制。