[发明专利]瓷负型造迹的方法在审

专利信息
申请号: 201510269390.7 申请日: 2015-05-25
公开(公告)号: CN104924828A 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 王昭旻 申请(专利权)人: 常熟理工学院
主分类号: B44C5/00 分类号: B44C5/00
代理公司: 北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) 11341 代理人: 袁红红
地址: 215500 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 瓷负型造迹 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及瓷板画或瓷作品领域,特别是涉及一种瓷负型造迹的方法。

背景技术

瓷是在远古陶基础上进一步“升温”而形成的高级阶段,也是中国古人高度艺术化的“高科技”体现。

从早期单一的青花瓷到如今的颜色釉,由日常的实用器皿到观赏瓷,瓷的世界发生了革命性改变。其中,高温窑变釉(或称颜色釉)的出现是近几十年才发生的事,瓷一般分为日常用瓷(如瓷瓶、瓷盘、瓷碗、瓷碟等等生活用瓷)及艺术瓷(如瓷板画、瓷雕、瓷装置等艺术欣赏瓷),目前在瓷创作领域主要集中在相对传统的日常实用瓷及强调传统工艺的瓷创作方法。

现有技术的不足主要体现:

1、在釉料的使用上多集中体现在“加法”上,也就是用绘画的方法釉料叠加法或者浮雕刻画、贴花等去制作烧制成瓷,叠加的方法往往使釉料过厚而进窑炉烧制出现“缩釉”现象,在传统工艺中“缩釉”被认为是残次品。

2、泥胎与泥板在高温下,泥胎、泥板在釉料的热膨胀下,很容易致使泥胎、泥板釉断,其中,高温颜色釉更容易发生釉断,致使成瓷率严重减低。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种瓷负型造迹的方法,能够有效地减低釉料由于热膨胀拉伸或冷切导致的釉断泥胎、泥板的现象发生,减少由于釉料堆积过高、过厚而引起的“缩釉”现象发生。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种瓷负型造迹的方法,在用釉料或釉料混合料进行表面塑形后的泥胎上进行剥离操作,从而留下负型痕迹。

在本发明一个较佳实施例中,具体步骤包括:

(100)、配料:将泥与釉料按照预定比例混合,得到所需颜色的混合泥料;

(200)、塑形:用步骤(100)所得到的混合泥料在泥胎上进行塑形,得到塑形后的产品;

(300)、干燥:将步骤(200)所得到的塑形后的产品进行干燥;

(400)、负型:按照预定需要剔除剥离步骤(300)所得到的产品的表面的泥及釉料;

(500)、烧制:最后进窑炉烧制而成瓷。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(100)中,所述泥与釉料的混合比例为8:2~3。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(200)中,所述混合泥料在泥胎上进行塑形后的厚度范围为0 .3cm~0.5cm。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(300)中,干燥后的产品的含水率控制在5 %~8%。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(300)中,在10-42℃自然干燥。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(400)中,所述泥及釉料的剥离最大宽度范围为2cm~3cm。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(500)中,所述烧制温度范围为10℃~1300℃,时间范围为≥ 96时。

在本发明一个较佳实施例中,所述步骤(400)后,在产品表面上面釉料再进行烧制。

本发明的有益效果是:本发明瓷负型造迹的方法和现有技术相比具有以下的优点:

1、使用剔除釉料留下痕迹的反向的“减法”技术恰恰使某一种釉料的面积大幅缩小,有效地减低釉料由于热膨胀拉伸或冷切导致的釉断泥胎、泥板的现象发生。

2、大幅减少由于釉料堆积过高、过厚而引起的“缩釉”现象发生。

3、为制造新的迹象呈现了新的可能,当这种负型迹象大面积连续出现使用时,反而出现了令人意想不到的震撼效果。

4、由于釉料剥离后会产生高低凹凸不平状况,可以致使釉料在窑炉高温作用下呈现液体流动现象,产生自然肌理的窑变,釉料的流动变化使艺术作品更具魅力与吸引力。

5、釉料剥离减低釉料的大面积热膨胀后,在减低温度及热冷切时,由于点状分布在泥胎、泥板上的剥离后的“负型造迹”使局部泥板直接暴露在空气中,可以与反面的瓷板冷切同步,有效地回避冷切致使拉力不一致而釉断瓷板。

附图说明

图1是本发明瓷负型造迹的方法一较佳实施例负型后的示意图。

图2是本发明瓷负型造迹的方法另一较佳实施例的成品的示意图。

具体实施方式

下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

本发明实施例包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常熟理工学院,未经常熟理工学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510269390.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top