[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 201510283539.7 | 申请日: | 2015-05-28 |
公开(公告)号: | CN104979375A | 公开(公告)日: | 2015-10-14 |
发明(设计)人: | 崔颖;胡春静 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板,包括:透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层;其特征在于,所述像素界定层包括:反射层,所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状,用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧;在所述像素界定层所在区域内,从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述反射层的材料为金属。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板的出光侧为所述显示基板远离所述透明衬底的表面;
所述像素界定层还包括:位于所述像素界定层所在区域的凸起,所述反射层覆盖所述凸起的全部或部分;以及位于所述反射层之上的第一透明部。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述凸起的横截面为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形。
5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:位于所述透明衬底上的第一透明层,所述凸起形成在所述第一透明层上、且与所述第一透明层为一体结构。
6.根据权利要求1或2所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板的出光侧为所述透明衬底的下表面;所述显示基板还包括位于所述透明衬底上的第二透明层,所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成有凹槽,所述反射层覆盖所述凹槽的全部或部分;
所述像素界定层还包括:位于所述反射层之上的第二透明部,所述第二透明部的底部填充在所述凹槽内。
7.根据权利要求6所述的显示基板,其特征在于,所述凹槽的横截面为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形。
8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的显示基板。
9.一种如权利要求3-5任一项所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在透明衬底上形成第一透明层,所述第一透明层在所述像素界定层所在区域形成凸起;
在所述凸起上形成反射层;
在所述透明衬底上对应所述凸起的位置处形成第一透明部,且所述第一透明部覆盖所述凸起以及所述反射层。
10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述第一透明层和所述凸起通过一次构图工艺形成。
11.一种如权利要求6或7所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在透明衬底上形成第二透明层,所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成凹槽;
在所述凹槽上形成反射层;
在所述透明衬底上对应所述凹槽的位置处形成第二透明部,所述第二透明部的底部填充所述凹槽。
12.根据权利要求11所述的制作方法,其特征在于,所述第二透明层和所述凹槽通过一次构图工艺形成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的