[发明专利]熔融浸渍模头系统

权利要求书

1.一种熔融浸渍模头系统，其特征在于：包括熔体导流装置及设于其下方的玻纤浸渍装置，所述熔体导流装置包括内部设有熔体流道的外壳，所述熔体流道包括主流道、与主流道连通的分流道及设于分流道底部的多个下料口；所述玻纤浸渍装置设于下料口下方，其包括长方形壳体及设于壳体内的框架，所述壳体内部为浸渍池，壳体上设有相对的两个与浸渍池连通的模腔口，框架设于浸渍池内；所述框架的一边设有前挡板，前挡板上均匀设有多个玻纤入口，框架插入浸渍池后，前挡板将其中一个模腔口封堵；所述框架上与前挡板相对的边上设有多个玻纤出口，所述玻纤出口与玻纤入口数量一致；所述玻纤入口倾斜设置在前挡板上，玻纤入口的中心轴线与水平面之间的夹角为0～60°；所述框架内依次设有张力轴及多个相互平行的导向辊；所述壳体上另一个模腔口处设有后挡板，所述后挡板上设有与各个玻纤出口对应的铜嘴，所述铜嘴内部设有通道；所述壳体上方还设有熔体入口，所述熔体导流装置的下料口设于熔体入口上方。

2.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述主流道为设于外壳内的圆柱形通孔，所述分流道为V型流道，分流道的V型开口与主流道下方连通，多个下料口依次设于分流道底部；所述主流道内部穿有流道内芯，所述流道内芯为圆柱形，流道内芯的一端设有圆锥形头部，其顶角角度为45～90°，另一端设有与外壳连接的内芯法兰，所述主流道一端设有进料口法兰，流道内芯的内芯法兰与外壳连接后，锥形头部面对进料口法兰的位置；流道内芯的外径为主流道内径的0.3～0.7倍。

3.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：设于分流道底部的多个下料口的直径依次递增，以最靠近进料口法兰位置的下料口为第一个下料口，设其直径D₁＝a，则其余下料口的直径依次为D_n＝(1.02～1.05)^n-1*a,其中n＝2,3,4,……，48。

4.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述导向辊以每两个为一组均布于框架内，导向辊包括辊体及设于辊体两端的支撑轴，辊体可以支撑轴为转轴转动；所述框架上设有卡槽，所述支撑轴的端部卡装于卡槽内。

5.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述玻纤入口为锥形，玻纤进入玻纤入口的部位尺寸小于玻纤从玻纤入口中穿出部位的尺寸，玻纤入口的两个外边缘作圆角处理。

6.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述框架内最接近后挡板的导向辊上切面与玻纤出口的底面处于同一水平面。

7.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述外壳上设有感温探头，所述感温探头的端部与主流道连通；所述外壳与壳体的外侧均设有加热板，所述加热板为电热式加热板。

8.根据权利要求1所述的熔融浸渍模头系统，其特征在于：所述通道包括喇叭形通道口与圆形通孔，铜嘴设有喇叭形通道口的一端面对玻纤出口。