[发明专利]一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件

权利要求书

1.一种应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、抽真空：对真空室加热，将手表部件放置于真空室中，并布置磁控靶和离子源，所述磁控靶为2~4对的Cr对靶和Si对靶；再对真空室抽真空至总气压低于5×10^-3Pa，再通入惰性气体，使真空室总气压控制在0.2Pa以下；

B、预处理：在负偏压-300 ~ -500V，恒定电流13~17A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射8~12min，清除手表部件上的氧化物；

在负偏压-50 ~ -70V，恒定电流6~10A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射4~6min，在手表部件上沉积一层Cr过渡层；

C、纳米多层薄膜沉积：通过离子源向真空室喷入氮气，所述氮气与真空室中惰性气体的体积比控制为1:2，并使真空室总气压控制在0.3Pa以下；

在负偏压-80 ~ -120V，恒定电源6~8A的条件下，控制Cr对靶和Si对靶交替进行溅射，Cr对靶溅射时沉积得到CrN层，Si对靶溅射时沉积得到Si_xN_y层，最终制得CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜。

2.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，所述步骤A之前还包括：

S、手表部件预处理：将手表部件放置于超声波清洗机中，用丙酮和乙醇分别进行超声波清洗5~15min，除去表面杂质，烘干后待用。

3.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，在步骤B中，所述Cr过渡层的厚度为40nm。

4.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，在步骤C中，Cr对靶和Si对靶交替进行溅射时获得的每个CrN层和Si_xN_y层厚度均为50~100nm。

5.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，在步骤C中，所述CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜的厚度为1.0~3.5μm。

6.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，所述Si_xN_y为SiN₄或Si₃N₄。

7.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，在步骤C中，所述所述CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜的最外层为CrN层。

8.根据权利要求1所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其特征在于，所述手表料件的材料包括304型不锈钢、306型不锈钢中的一种或多种。

9.一种手表部件，其特征在于，所述手表部件表面上的薄膜由权利要求1~8任一项所述电镀方法所制成。

10.根据权利要求9所述手表部件，其特征在于，所述手表部件沿表面垂直方向，最里层为Cr过渡层，中间为交替沉积的CrN层和Si_xN_y层，最外层为CrN层；其中，所述Cr过渡层的厚度为40nm；所述CrN层和Si_xN_y层厚度均为50~100nm。