[发明专利]一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件

说明书

技术领域

本发明涉及手表材料制备领域，尤其涉及一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件。

背景技术

不锈钢是目前手表部件制造中最常用的材料，但由于不锈钢的硬度有限，如不锈钢的硬度只有HV180。手表在佩戴过程中与其他物体产出碰撞或相互摩擦时，手表料件光润的表面极易出现划痕与不细微凹点，影响美观；另外，不锈钢是靠其表面形成的一层极薄而坚固细密、稳定的富铬氧化膜（防护膜），防止氧原子的继续渗入、继续氧化，而获得抗锈蚀的能力，该氧化膜由于摩擦或碰撞被破坏掉后，不锈钢将会发生锈蚀，影响品质。

   常见的对手表不锈钢部件表面进行改善的方法是进行电镀Cr处理，能提高手表不锈钢部件表面硬度和耐磨性，但是传统的电镀铬技术在镀层质量以及工艺方面仍然存在着一些问题：（1）随着铬镀层厚度的增加，膜层与基体的结合力将会下降，越容易掉膜；（2）较薄的镀层通常为多孔结构，适用性能较差；（3）较厚的镀层，表面粗糙度大，需要进行打磨抛光工序，增加成本；（4）较厚的镀层则非常容易钝化，并且韧性低，受到冲击时容易形成表面裂纹。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种应用于手表部件的纳米电镀方法及手表部件，旨在解决现有技术中手表部件由于硬度小，容易在佩戴过程中出现划痕与不细微凹点，并导致锈蚀等问题。

本发明的技术方案如下：

一种应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，包括以下步骤：

A、抽真空：对真空室加热，将手表部件放置于真空室中，并布置磁控靶和离子源，所述磁控靶为2~4对的Cr对靶和Si对靶；再对真空室抽真空至总气压低于5×10^-3Pa，再通入惰性气体，使真空室总气压控制在0.2Pa以下；

B、预处理：在负偏压-300 ~ -500V，恒定电流13~17A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射8~12min，清除手表部件上的氧化物；

在负偏压-50 ~ -70V，恒定电流6~10A的条件下，控制Cr对靶对手表部件溅射4~6min，在手表部件上沉积一层Cr过渡层；

C、纳米多层薄膜沉积：通过离子源向真空室喷入氮气，所述氮气与真空室中惰性气体的体积比控制为1:2，并使真空室总气压控制在0.3Pa以下；

在负偏压-80 ~ -120V，恒定电源6~8A的条件下，控制Cr对靶和Si对靶交替进行溅射，Cr对靶溅射时沉积得到CrN层，Si对靶溅射时沉积得到Si_xN_y层，最终制得CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，所述步骤A之前还包括：

S、手表部件预处理：将手表部件放置于超声波清洗机中，用丙酮和乙醇分别进行超声波清洗5~15min，除去表面杂质，烘干后待用。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，在步骤B中，所述Cr过渡层的厚度为40nm。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，在步骤C中，Cr对靶和Si对靶交替进行溅射时获得的每个CrN层和Si_xN_y层厚度均为50~100nm。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，在步骤C中，所述CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜的厚度为1.0~3.5μm。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，所述Si_xN_y为SiN₄或Si₃N₄。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，在步骤C中，所述所述CrN/Si_xN_y纳米多层薄膜的最外层为CrN层。

所述应用于手表部件的纳米电镀方法，其中，所述手表料件的材料包括304型不锈钢、306型不锈钢中的一种或多种。

一种手表部件，其中，所述手表部件表面上的薄膜由权利要求1~8任一项所述纳米电镀方法所制成。