[发明专利]一种基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法在审
申请号: | 201510294309.0 | 申请日: | 2015-06-02 |
公开(公告)号: | CN105039937A | 公开(公告)日: | 2015-11-11 |
发明(设计)人: | 高超;周浪;黄海宾;岳之浩 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;H01L31/18;H01L31/032 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
地址: | 330031 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 溶剂 制备 铜锌锡硫硒 薄膜 方法 | ||
1.一种基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法,其特征是包括以下步骤:
(1)在清洗干净的镀有钼薄层的衬底上采用化学浴工艺沉积硫化亚锡薄膜,通过控制沉积时间控制硫化亚锡薄膜的厚度,沉积结束后用纯水清洗薄膜表面;
(2)在硫化亚锡薄膜上采用化学浴工艺沉积硫化铜薄膜,通过控制沉积时间控制硫化铜薄膜的厚度,沉积结束后用纯水清洗薄膜表面;
(3)在硫化铜薄膜上采用化学浴工艺沉积硫化锌薄膜,通过控制沉积时间控制硫化锌薄膜的厚度,沉积结束后用纯水清洗薄膜表面;
(4)将经以上步骤制得的前驱薄膜在硫/硒气氛下退火处理得到铜锌锡硫硒薄膜。本步骤中的硫/硒气氛包括单质硫/硒蒸气、硫化氢气体或硒化氢气体。
2.根据权利要求1所述的基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法,其特征是步骤(1)中硫化亚锡薄膜的制备工艺如下:使用氯化亚锡、柠檬酸铵、硫代硫酸钠以及氯化铵配制沉积溶液,其中氯化亚锡、柠檬酸铵、硫代硫酸钠以及氯化铵的浓度分别为0.03-0.06M、0.1-0.2M、0.1-0.2M以及0.2-0.5M;使用氨水调节溶液的pH值至5-7,将衬底置于60-80℃溶液沉积60-120min得到硫化亚锡薄膜。
3.根据权利要求1所述的基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法,其特征是步骤(2)中硫化铜薄膜的制备工艺如下:使用氯化铜、三乙醇铵、硫脲以及氯化铵配制沉积溶液,其中氯化铜、三乙醇铵、硫脲及氯化铵的浓度分别为0.01-0.02M、0.2-0.4M、0.02-0.04M及0.1-0.2M;使用氨水调节溶液的pH值至9-10,将衬底置于60-80℃沉积溶液中沉积30-50min得到硫化铜薄膜。
4.根据权利要求1所述的基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法,其特征是步骤(3)中硫化锌薄膜的制备工艺如下:使用乙酸锌、柠檬酸钠、硫脲以及氯化铵配制沉积溶液,其中乙酸锌、柠檬酸钠、硫脲及氯化铵的浓度分别为0.02-0.04M、0.05-0.1M、0.2-0.4M及0.1-0.2M;使用氨水调节溶液的pH值至9-10,将衬底置于60-80℃沉积溶液中沉积60-120min得到硫化锌薄膜。
5.根据权利要求1所述的基于水溶剂制备铜锌锡硫硒薄膜的方法,其特征是步骤(4)中硫/硒化退火处理的工艺如下:将步骤(3)后所得到的前驱薄膜在硫/硒气氛下退火,退火温度为400-600℃,退火时间为10min-120min;所述的硫/硒气氛包括硫蒸气/硒蒸气或硫化氢/硒化氢,同时使用氮气以维持退火过程中总气压保持在10-1000mbar。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌大学,未经南昌大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510294309.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于致密含气砂岩储层预测的测井曲线恢复方法
- 下一篇:辐射探测电路
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理