[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底和设置在该衬底上的薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括有源层，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述薄膜晶体管的有源层上方的遮光层，所述遮光层至少覆盖所述薄膜晶体管的沟道区域。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括源极和漏极，所述遮光层设置在所述源极和漏极的上方，所述阵列基板还包括设置在所述遮光层上的隔垫物。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层和所述隔垫物一体形成。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层包括不透光的光刻胶层。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述薄膜晶体管上方的钝化层，所述遮光层设置在所述钝化层上。

6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成薄膜晶体管的有源层；

在所述薄膜晶体管的有源层上方形成遮光层，所述遮光层至少覆盖所述薄膜晶体管的沟道区域。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：形成包括薄膜晶体管的源极和漏极的图形；所述在薄膜晶体管的有源层上方形成遮光层的步骤在所述形成包括薄膜晶体管的源极和漏极的图形的步骤之后进行，所述制作方法还包括：

形成包括隔垫物的图形，所述隔垫物位于所述遮光层的上方。

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在薄膜晶体管的有源层上方形成遮光层的步骤和所述形成包括隔垫物的图形的步骤同步形成，所述同步形成的步骤包括：

形成不透光的光刻胶层；

利用半色调掩膜板对所述光刻胶层进行曝光并显影，以使得显影后的光刻胶层位于预定区域的部分保留，其他部分去除，所述预定区域对应于所述遮光层的位置，并且，所述预定区域包括中间子区域和位于该中间子区域周围的边缘子区域，位于所述中间子区域的光刻胶层的厚度大于位于所述边缘子区域的光刻胶层的厚度，所述中间子区域对应于所述隔垫物的位置。

9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述光刻胶层为负性光刻胶层，所述半色调掩膜板的透光区对应于所述中间子区域，所述半色调掩膜板的半透光区对应于所述边缘子区域，所述半色调掩膜板的不透光区域对应于所述预定区域以外的区域。

10.根据权利要求6至9中任意一项所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括在所述形成薄膜晶体管的有源层的步骤和所述在薄膜晶体管的有源层上方形成遮光层的步骤之间进行的：

形成钝化层。

11.一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板和与该阵列基板相对设置的对盒基板，其特征在于，所述阵列基板为权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板，所述对盒基板包括黑矩阵，所述黑矩阵在所述衬底上的投影覆盖所述遮光层在所述衬底上的投影。

12.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求11所述的显示面板。