[发明专利]掩膜装置及掩膜系统在审
| 申请号： | 201510308594.7 | 申请日： | 2015-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN104880907A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 曾杰;李安石 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/50 | 分类号： | G03F1/50;G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 系统 | ||
1.一种掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
2.如权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版与所述光源组件之间相对静止，所述光源和所述掩膜图案对应设置。
3.如权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版可相对所述光源组件转动，所述光源的照射方向为垂直向下。
4.如权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为环形。
5.如权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为多边形。
6.如权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩模版为环形。
7.如权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述滚筒掩膜版为多边形。
8.一种掩膜系统，其特征在于，所述掩膜系统包括至少两个同轴设置的掩膜装置，每一掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。
9.如权利要求8所述的掩膜系统，其特征在于，所述至少两个同轴设置的掩膜装置为结构相同的掩膜装置。
10.如权利要求8所述的掩膜系统，其特征在于，所述至少两个同轴设置的掩膜装置中至少有两个掩膜装置上的掩膜图案的形状不同。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510308594.7/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：着色组合物、着色固化膜和显示元件
- 下一篇：环幕影院放映中修正图像畸变的方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
