[发明专利]掩膜装置及掩膜系统

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示制造领域，特别涉及一种掩膜装置及掩膜系统。

背景技术

在大尺寸薄膜晶体管液晶显示领域中，常用接近式曝光机结合掩膜版对图层进行曝光构图。掩模版，也称光罩、光学掩模版。常见的掩模版有铬版、干版、菲林等，是指在薄膜、塑料或玻璃基材上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。目前光掩膜版的基板材料，常被使用的有石英玻璃和苏打玻璃两种。苏打玻璃较多被应用在STN-LCD(STN-LCD，超扭曲向列型液晶显示器)、TN-LCD(TN-LCD，扭曲向列型液晶显示器)、TP(TP，触摸面板)等产品的生产上。

如图1所示，一般情况下，掩膜版为一大平面，掩膜版上刻有需要掩模的图案，在掩膜版上方通过光线照射，可以在感光材料上形成需要的图案。而随着面板技术的迅速发展，玻璃基板尺寸越来越大，8.5代线玻璃基板的尺寸为2200mm×2500mm，相应地也就需要更大面积的掩膜版来曝光玻璃基板的感光材料，而制作更大面积的掩膜版又需要更好的技术和更多的成本。

发明内容

本发明实施例公开一种掩膜装置及掩膜系统，以在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。

本发明实施例公开的掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。

一个实施例中，所述滚筒掩膜版与所述光源组件之间相对静止，所述光源和所述掩膜图案对应设置。

一个实施例中，所述滚筒掩膜版可相对所述光源组件转动，所述光源的照射方向为垂直向下。

一个实施例中，所述滚筒掩膜版为环形。

一个实施例中，所述滚筒掩膜版为多边形。

本发明公开的掩膜系统包括至少两个同轴设置的掩膜装置，每一掩膜装置包括滚筒掩膜版及置于所述滚筒掩膜版内的光源组件，所述滚筒掩膜版的外表面上设置有掩膜图案，所述光源组件的外表上设置有光源，在所述光源的照射下，所述滚筒掩膜版在玻璃基板上滚过时，可在所述玻璃基板的感光材料上形成所述掩膜图案。

一个实施例中，所述至少两个同轴设置的掩膜装置为结构相同的掩膜装置。

一个实施例中，所述至少两个同轴设置的掩膜装置中至少有两个掩膜装置上的掩膜图案的形状不同。

与现有技术相比，本发明实施例具有以下有益效果：在不需要制作大面积掩膜板的情况下，可在大面积的玻璃基板的感光材料上形成掩膜图案，从而节省成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术中掩膜版的立体视图；

图2是本发明第一实施例公开的掩膜装置连接机台的连接机构的立体视图；

图3是图2中的掩膜装置的立体视图；

图4是图3中的掩膜装置的滚筒掩膜版的立体视图；

图5是图3中的掩膜装置的光源组件的立体视图；

图6是图2中的连接机构的立体视图；

图7是本发明第二实施例公开的掩膜装置的立体视图，与图2中的掩膜装置的不同之处在于掩膜图案的形状不同；

图8是本发明第三实施例公开的掩膜装置的立体视图，与图2中的掩膜装置的不同之处在于滚筒掩膜版的形状不同；

图9是本发明第四实施例公开的掩膜装置连接机台的连接机构的立体视图；

图10是图9中的掩膜装置的光源组件的立体视图；

图11是图9中的连接机构的立体视图；

图12是本发明第一实施例公开的掩膜系统连接机台的连接机构的立体视图；

图13是本发明第二实施例公开的掩膜系统连接机台的连接机构的立体视图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。