[发明专利]浸泡式玻璃基板蚀刻机有效
申请号: | 201510314348.2 | 申请日: | 2015-06-09 |
公开(公告)号: | CN104891817B | 公开(公告)日: | 2017-05-03 |
发明(设计)人: | 刘亮;尹德胜 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 浸泡 玻璃 蚀刻 | ||
技术领域
本发明涉及显示器的制程领域,尤其涉及一种浸泡式玻璃基板蚀刻机。
背景技术
在显示技术领域,液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)具有机身薄、省点、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用,如:移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本屏幕等。
薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)液晶显示器一般包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(backlight module)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子,通过玻璃基板通电与否来控制液晶分子改变方向,将背光模组的光线折射出来产生画面。
上述TFT-LCD的制程一般包括:前段阵列(Array)制程、中段成盒(Cell)制程、及后段模组组装制程。前段阵列制程又包括:玻璃基板的清洗与干燥、镀膜、涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶等制程。
受限于前段制程,玻璃基板厂商所能提供的玻璃基板厚度只能到0.5mm,而显示产品要求玻璃基板的厚度已经达到了0.3mm甚至更薄。因此,需要对平板玻璃基板进行减薄工艺,即将已成盒后的双面玻璃基板通过物理或化学方法去除一层而实现减薄。其中,化学方法即化学蚀刻,通常采用浸泡方式将玻璃基板完全进入蚀刻药液进行蚀刻。
请参阅如图1,现有的玻璃基板的浸泡式蚀刻机100仅底部有鼓泡(bubble)机构110带动槽液循环,但此底部bubble机构110不能均匀将玻璃表面的反应生成物(Sludge)及时清除,且玻璃表面蚀刻液替换率低,一旦底部bubble机构110变形或者其中的部分孔位111堵塞,将导致蚀刻异常,如蚀刻后的玻璃基板上产生水波纹、或者蚀刻后的玻璃基板的厚度异常。再者,随玻璃世代增加,需要进行薄化工艺的玻璃尺寸不断增加,G5.1世代的玻璃尺寸相较于G4.5代已由730mm*920mm增加到了1200mm*1300mm,对于现有的浸泡式蚀刻方式,仅通过底部bubble机构来带动整体槽液循环的难度增加,相应蚀刻异常的风险也在增加。
发明内容
本发明的目的在于提供一种浸泡式玻璃基板蚀刻机,设备内设置有多层鼓泡板,强化设备内槽液循环,使得玻璃表面的生成物能及时去除,并能够使槽液内循环更加均匀。
为实现上述目的,本发明提供一种浸泡式玻璃基板蚀刻机,其特征在于,包括一槽体、位于所述槽体底部的底部鼓泡板、置于所述槽体内并位于所述底部鼓泡板上的内框、及位于内框内的数层间隔设置的内框鼓泡板;
所述底部鼓泡板与内框鼓泡板分别包括数条鼓泡管道,所述鼓泡管道具有多个鼓泡孔。
所述内框的相对两侧壁上分别沿竖直方向间隔设置有数个横向固定条,所述相对两侧壁上的数个横向固定条分别相对设置。
所述横向固定条朝向内框内部的侧面上沿所述横向固定条的延伸方向设有数个间隔设置的第一凹槽,所述第一凹槽用于固定待蚀刻的玻璃基板。
所述横向固定条的上端面上沿所述横向固定条的延伸方向设有数个间隔设置的第二凹槽,所述第二凹槽用于固定所述内框鼓泡板。
所述内框鼓泡板的数条鼓泡管道分别卡设于所述横向固定条上的数个第二凹槽中,从而使所述内框鼓泡板固定在所述横向固定条上。
所述横向固定条与所述内框之间为固定连接,所述内框鼓泡板与所述横向固定条之间为固定连接。
所述第一凹槽与所述第二凹槽在所述横向固定条上交错设置。
所述鼓泡管道上的鼓泡孔的气孔开口向下。
所述多个鼓泡孔沿鼓泡管道均匀分布,且每一鼓泡孔均为圆形鼓泡孔。
所述内框鼓泡板还包括与所述内框鼓泡板的数条鼓泡管道相连接的外管路支架,所述内框侧壁外相对于所述横向固定条的位置设置有外延承载结构,所述外延承载结构用于承载所述外管路支架。
本发明的有益效果:本发明的浸泡式玻璃基板蚀刻机,通过在内框内设置多层鼓泡板,相较于现有蚀刻机中仅底部设有鼓泡板的结构,能够强化槽内槽液循环,使玻璃基板表面产生的生成物被及时去除,并能够使槽内槽液循环更加均匀,避免水波纹及厚度蚀刻异常的产生。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中,
图1为现有的浸泡式玻璃基板蚀刻机的立体结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510314348.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。