[发明专利]光源装置和曝光装置

权利要求书

1.一种光源装置，其特征在于，所述光源装置具有：

1个激光二极管，其射出具有规定的波长特性的激光；

其他的激光二极管，其射出具有不同于所述规定的波长特性的其他波长特性的激光；

多个第1光纤束，其具有：1条第1光纤，其在入射端入射来自所述1个激光二极管的射出光并在出射端射出；其他的第1光纤，其在入射端入射来自所述其他的激光二极管的射出光并在出射端射出；以及第2光纤，其聚集所述1条第1光纤和其他的第1光纤的射出光，该多个第1光纤束将所述1条第1光纤和所述其他的第1光纤的出射端侧按照规定的排列进行集束，聚集该1条第1光纤和其他的第1光纤的射出光并使其入射到所述第2光纤的入射端；

第2光纤束，其具有聚集所述第2光纤的射出光的第3光纤，该第2光纤束将所述多个第1光纤束部的多个第2光纤的出射端侧按照规定的排列进行集束，聚集各第2光纤的射出光并使其入射到所述第3光纤的入射端；以及

输出部，其连接于所述第3光纤的输出端，用于对外部进行输出。

2.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述光源装置具有控制装置，该控制装置对所述激光二极管单独地进行点亮、非点亮控制和输出控制中的至少一个控制。

3.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述光源装置具有控制装置，该控制装置对所述激光二极管按照规定的组进行点亮、非点亮控制和输出控制中的至少一个控制。

4.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述激光二极管具有包含于190nm～530nm的波段中的波长特性。

5.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述1个激光二极管具有在375nm附近存在峰值的波长特性，所述其他的激光二极管具有在405nm附近存在峰值的波长特性。

6.一种曝光装置，其通过空间光调制元件对从光源装置发出的光进行调制，并利用该调制后的光使感光材料曝光，所述空间光调制元件排列有分别独立地进行调制的多个像素部，其特征在于，

该曝光装置使用了权利要求1至5中的任意一项所述的光源装置。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其中，

所述曝光装置具有微透镜阵列，所述微透镜阵列排列有多个微透镜，所述多个微透镜将由所述多个像素部调制后的多个光线束分别单独地会聚。