[发明专利]太阳能电池的制造方法有效

专利信息
申请号: 201510323373.7 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN105047545B 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 町井洋一;吉田诚人;野尻刚;冈庭香;岩室光则;足立修一郎;织田明博;佐藤铁也;木泽桂子 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: H01L21/225 分类号: H01L21/225;H01L31/18;H01L31/068
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体基板 太阳能电池 玻璃粉末 分散介质 热处理 热扩散 电极 制造
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池的制造方法,其包含以下工序:

对半导体基板一个面上的第1区域给予含有包含n型杂质的玻璃粉末和分散介质的用于形成n型扩散层的组合物的工序,

对位于所述半导体基板的设有所述第1区域的面上且为所述第1区域以外的第2区域给予含有包含p型杂质的玻璃粉末和分散介质的用于形成p型扩散层的组合物的工序,

对给予了所述用于形成n型扩散层的组合物和用于形成p型扩散层的组合物的半导体基板进行热处理而形成n型扩散层和p型扩散层的热扩散工序,和

在所述形成了n型扩散层的第1区域和形成了p型扩散层的第2区域分别形成电极的工序,

所述第1区域和所述第2区域互相不接触而空出规定间隔进行设置。

2.一种太阳能电池的制造方法,其包含以下工序:

对半导体基板一个面上的第1区域给予含有包含n型杂质的玻璃粉末和分散介质的用于形成n型扩散层的组合物的工序,

对位于所述半导体基板的设有所述第1区域的面上且为所述第1区域以外的第2区域给予含有包含p型杂质的玻璃粉末和分散介质的用于形成p型扩散层的组合物的工序,

对给予了所述用于形成n型扩散层的组合物和用于形成p型扩散层的组合物的半导体基板进行热处理而形成n型扩散层和p型扩散层的热扩散工序,

在所述热扩散工序之前,在位于所述半导体基板的设有所述第1区域和第2区域的面上且为选自所述第1区域、第2区域、以及第1区域和第2区域以外的第3区域中的至少1个区域之上设置保护层的工序,和

在所述形成了n型扩散层的第1区域和形成了p型扩散层的第2区域分别形成电极的工序,

所述第1区域和所述第2区域互相不接触而空出规定间隔进行设置。

3.根据权利要求2所述的太阳能电池的制造方法,其中,所述保护层是氧化物膜。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的太阳能电池的制造方法,其中,所述n型杂质含有选自磷P和锑Sb中的至少1种元素。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的太阳能电池的制造方法,其中,所述p型杂质含有选自硼B、铝Al和镓Ga中的至少1种元素。

6.根据权利要求1~3中任一项所述的太阳能电池的制造方法,其中,所述包含n型杂质的玻璃粉末含有

选自P2O3、P2O5及Sb2O3中的至少1种含n型杂质的物质、和

选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、V2O5、SnO、ZrO2、TiO2、及MoO3中的至少1种玻璃成分物质。

7.根据权利要求1~3中任一项所述的太阳能电池的制造方法,其中,所述包含p型杂质的玻璃粉末含有

选自B2O3、Al2O3及Ga2O3中的至少1种含p型杂质的物质、和

选自SiO2、K2O、Na2O、Li2O、BaO、SrO、CaO、MgO、BeO、ZnO、PbO、CdO、V2O5、SnO、ZrO2、TiO2、及MoO3中的至少1种玻璃成分物质。

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