[发明专利]动态光散射测定装置和动态光散射测定方法在审
| 申请号： | 201510340652.4 | 申请日： | 2015-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN105277490A | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 泉谷悠介;岩井俊昭 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社;国立大学法人东京农工大学 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 徐谦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 动态 散射 测定 装置 方法 | ||
1.一种动态光散射测定装置，包含：
照射部，其将来自低相干光源的光照射到包含颗粒的试样；
光谱强度取得部，其使来自参照面的反射光和透射过所述参照面的来自所述试样的散射光分光，取得所述反射光和所述散射光的干涉光的光谱强度，所述参照面配置于照射到所述试样的光的光路上；以及
测定部，其基于取得的所述光谱强度来测定所述试样的动态光散射。
2.根据权利要求1所述的动态光散射测定装置，其中，
所述照射部将来自所述低相干光源的光经由收纳所述试样的透明容器的壁面照射到所述试样，
所述参照面是所述透明容器的壁面。
3.根据权利要求1所述的动态光散射测定装置，其中，
所述照射部将来自所述低相干光源的光经由所述试样的气液界面照射到所述试样，
所述参照面是所述试样的气液界面。
4.根据权利要求1所述的动态光散射测定装置，其中，
所述参照面设于来自所述低相干光源的光传播的光传播部件的射出侧的端部。
5.一种动态光散射测定方法，包含：
照射步骤，将来自低相干光源的光照射到包含颗粒的试样；
光谱强度取得步骤，使来自参照面的反射光和透射过所述参照面的来自所述试样的散射光分光，取得所述反射光和所述散射光的干涉光的光谱强度，所述参照面配置于照射到所述试样的光的光路上；以及
测定步骤，基于取得的所述光谱强度测定所述试样的动态光散射。
6.根据权利要求5所述的动态光散射测定方法，其中，
在所述照射步骤中，将来自所述低相干光源的光经由收纳所述试样的透明容器的壁面照射到所述试样，
所述参照面是所述透明容器的壁面。
7.根据权利要求5所述的动态光散射测定方法，其中，
在所述照射步骤中，将来自所述低相干光源的光经由所述试样的气液界面照射到所述试样，
所述参照面是所述试样的气液界面。
8.根据权利要求5所述的动态光散射测定方法，其中，
将所述参照面设于来自所述低相干光源的光传播的光传播部件的射出侧的端部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大塚电子株式会社;国立大学法人东京农工大学，未经大塚电子株式会社;国立大学法人东京农工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
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