[发明专利]光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板

权利要求书

1.一种光硬化性涂布组成物，其特征在于，包括：

光硬化性聚合物，为至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物经水解缩合反应而得：

M(OR^a)_n 式(I)

式(I)中，M表示硅、钛、钽、锆、硼、铝、镁或锌；R^a表示碳数1～5的直链或支链的烷基；n为2～5的整数，

R^bSi(OR^c)₃ 式(II)

式(II)中，R^b表示碳数2～10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基；R^c表示碳数1～5的直链或支链的烷基，

式(III)中，X表示乙基、式(V-1)所示的基团、式(V-2)所示的基团、式(V-3)所示的基团、式(V-4)所示的基团、式(V-5)所示的基团、式(V-6)所示的基团、碳原子或式(V-7)所示的基团，

Y表示氢原子或式(IV)所示的基团；p为1～4的整数；当p为1时，Y表示式(IV)所示的基团，当p为2～4时，Y中的至少一个为式(IV)所示的基团，

式(IV)中，R^d表示碳数1～15的直链或支链的亚烷基；R^e分别表示碳数1～5的直链或支链的烷基，

以所述式(I)所示的化合物、所述式(II)所示的化合物以及所述式(III)所示的化合物的总量为100重量份计，所述式(I)所示的化合物的含量为55重量份至85重量份，所述式(II)所示的化合物的含量为10重量份至35重量份，所述式(III)所示的化合物的含量为5重量份至35重量份。

2.根据权利要求1所述的光硬化性涂布组成物，其特征在于，还包括溶剂。

3.根据权利要求1所述的光硬化性涂布组成物，其特征在于，所述式(III)所示的化合物是由含巯基及酯基的化合物与含异氰酸酯基的化合物反应而得，其中，所述含巯基及酯基的化合物为选自由季戊四醇四(2-巯基醋酸酯)、2,2-双[(2-磺酰基乙酰氧基)甲基]丁基磺酰基醋酸酯、2-(((巯基乙酰基)氧基)甲基)-2-甲基-1,3-丙二基双(巯基醋酸酯)、2-((3-((巯基乙酰基)氧基)-2,2-双(((巯基乙酰基)氧基)甲基)丙氧基)甲基)-2-(((巯基乙酰基)氧基)甲基)-1,3-丙二基双(巯基醋酸酯)、磺酰基乙酸异丁酯、2,2-二甲基-1,3-丙二基双(磺酰基醋酸酯)、巯基乙酸丙酯、2,4,4-三甲基戊基磺酰基醋酸酯及3-羟基-2,2-双(羟基甲基)丙基-2-磺酰基丙酸酯所组成的群组中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的光硬化性涂布组成物，其特征在于，所述含异氰酸酯基的化合物为选自由(3-异氰酸基丙基)(三甲氧基)硅烷、(3-异氰酸基丙基)(三丙氧基)硅烷、二乙氧基(3-异氰酸基丙基)甲氧基硅烷、3-异氰酸基丙基三乙氧基硅烷、(2-异氰酸基乙基)(三甲氧基)硅烷、(2-异氰酸基乙基)(三异丙氧基)硅烷、(2-异氰酸基乙基)(三丙氧基)硅烷、三乙氧基(2-异氰酸基乙基)硅烷、三乙氧基-(5-异氰酸基戊基)硅烷、三乙氧基(10-异氰酸基癸基)硅烷及三乙氧基(11-异氰酸基十一基)硅烷所组成的群组中的至少一种。

5.一种光硬化涂布膜，其特征在于，由如权利要求1至4中任一项所述的光硬化性涂布组成物所制得。

6.根据权利要求5所述的光硬化涂布膜，其特征在于，其膜厚度为80nm至120nm，且折射率为1.60至1.70。

7.根据权利要求5所述的光硬化涂布膜，其特征在于，在波长380nm至780nm的范围内，所述光硬化涂布膜的穿透率大于85％。

8.一种触控面板，其特征在于，包括如权利要求5至7中任一项所述的光硬化涂布膜。