[发明专利]光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板

说明书

本发明提供一种光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板，光硬化性涂布组成物包括光硬化性聚合物，其至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物经水解缩合反应而得；从而具有良好光硬化性。M表示硅、钛、钽、锆、硼、铝、镁或锌；R^a、R^c及R^e分别表示碳数1～5的直链或支链的烷基；n为2～5的整数；R^b表示碳数2～10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基；R^d表示碳数1～15的直链或支链的亚烷基；X表示一价至六价的有机基；Y表示氢原子或式(IV)所示的基团；p为1～4的整数。

技术领域

本发明涉及一种光硬化性涂布组成物，尤其涉及一种含氧化合物经水解缩合反应而得光硬化性聚合物的光硬化性涂布组成物、由所述光硬化性涂布组成物制得的光硬化涂布膜及包括所述光硬化涂布膜的触控面板。

背景技术

在触控液晶显示装置中，由于不同物质层间的折射率显著的差异，此将导致使用者容易看见感测元件的图案，进而降低触控液晶显示装置的显示品质。目前，相关研究是通过在保护层下方设置Nb₂O₅层来降低折射率之间的差异并提高视别性。然而，此方法虽可提高显示品质，却使得制程步骤及成本增加。因此，如何提供同时兼具有一般保护层与Nb₂O₅层的作用，以达成高折射率、高穿透率、保护性佳与视别性佳等的效果的涂布膜，已成为业界急切进行研究的课题。

发明内容

本发明提供一种光硬化性涂布组成物、光硬化涂布膜及触控面板，所述光硬化性涂布组成物具有良好光硬化性，由所述光硬化性涂布组成物所形成的光硬化涂布膜，其具有良好的折射率、穿透率、密着性、硬度以及表面电阻率，且适合应用于触控面板中。

本发明提供一种光硬化性涂布组成物，其包括光硬化性聚合物。光硬化性聚合物是至少由式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物经水解缩合反应而得：

M(OR^a)_n 式(I)

式(I)中，M表示硅(Si)、钛(Ti)、钽(Ta)、锆(Zr)、硼(B)、铝(Al)、镁(Mg)或锌(Zn)；R^a表示碳数1～5的直链或支链的烷基；n为2～5的整数；

R^bSi(OR^c)₃ 式(II)

式(II)中，R^b表示碳数2～10的烯基、具有丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基或具有甲基丙烯酰氧基的碳数1～5的烷基；R^c表示碳数1～5的直链或支链的烷基；

式(III)中，X表示一价至六价的有机基；Y表示氢原子或式(IV)所示的基团；p为1～4的整数，当p为1时，Y表示式(IV)所示的基团，当p为2～4时，Y中的至少一个为式(IV)所示的基团；

式(IV)中，R^d表示碳数1～15的直链或支链的亚烷基；R^e分别表示碳数1～5的直链或支链的烷基。

以式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物的总量为100重量份计，式(I)所示的化合物的含量为50重量份至85重量份，式(II)所示的化合物的含量为10重量份至45重量份，式(III)所示的化合物的含量为5重量份至40重量份。在本发明的一实施例中，以式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物以及式(III)所示的化合物的总量为100重量份计，式(II)所示的化合物的含量为10重量份至35重量份。