[发明专利]描绘装置有效

专利信息
申请号: 201510354272.6 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN105388707B 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 山贺胜;清水修一 申请(专利权)人: 株式会社ORC制作所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 描绘 装置
【说明书】:

本发明提供描绘装置,该描绘装置具有:描绘台,其载置基板;曝光描绘部,其与上述描绘台相对地进行移动,将图案描绘在该描绘台上的基板上,在该描绘装置中,形成在基板上的对准标记的位置误差小且不会使基板的平面精度受损。描绘装置在上述描绘台上设有多个基准标记以及被确定了相对于上述各基准标记的位置的多个标记形成单元,上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基准,上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。

技术领域

本发明涉及在电子电路基板、LCD用玻璃基板、PDP用玻璃基板等平面基板的正反两面上描绘图案的描绘装置。

背景技术

近年来,在市场上兴起了直接曝光装置(描绘装置),在该直接曝光装置(描绘装置)中,不使用转印掩模,而是向基板的正反两面直接照射相互确定了位置关系的描绘光来描绘图案。在该双面曝光的情况下,当对正面(第1面)进行图案曝光时(或曝光之前),在反面(第2面)上曝光(形成)多个对准标记,在将基板的正反翻转而进行的对第2面的图案曝光时,以形成在第2面上的对准标记为基准来确定图案曝光位置(专利文献1、2)。具体而言,对准标记采用了不足φ2mm的圆形图案、十字等指标,一般情况下,对准标记在所要曝光的基板的角部,以光学方式设置为利用了光致抗蚀剂的自显色性的像(自显色像)。

专利文献1:日本特开2009-294337号公报

专利文献2:日本特开2013-213852号公报

然而,专利文献1和2的描绘装置具备相对于载置基板的描绘台可移动的标记形成单元(对准标记形成单元、标记曝光装置),使标记形成单元相对于描绘台(载置在其上的基板)移动而在基板反面上形成了对准标记。因此,可能会由于标记形成单元的移动机构的无法避免的机械误差而包含对准标记的位置误差。如果对准标记的形成位置存在误差,则第2面的描绘图案与第1面的描绘图案不能正确地匹配。另外,在实施描绘面的伸缩等缩放校正时,导致实施了与实际的基板伸缩不同的校正。

另外,现有装置必须设置能够相对于描绘台进行位置调节的标记形成单元,因此无法避免装置整体的大型化。另外,在专利文献2中,为了使标记形成单元移动,在描绘台正面设置了标记形成单元的退避部(槽部)。因此,在该退避部处无法支承基板反面,有可能对图案的描绘精度(基板的平面精度)造成不良影响。

发明内容

因此,本发明的目的在于获得一种形成在基板上的对准标记的位置误差小且不会使基板的平面精度受损的描绘装置。

本发明是着眼于以下情况而完成的:确定了在现有的描绘装置中,标记形成单元可相对于载置基板的描绘台进行移动是产生对准标记形成位置的误差的原因,只要在描绘台内设置在载置于该描绘台上的基板反面上直接形成对准标记的形成单元,就能够防止误差的发生。

即,本发明的描绘装置具有:描绘台,其载置基板;以及曝光描绘部,其与上述描绘台相对地进行移动,将图案描绘在该描绘台上的基板上,上述描绘装置的特征在于,在上述描绘台上,设有多个基准标记以及被确定了相对于上述各基准标记的位置的多个标记形成单元,上述多个基准标记用于设定相对于上述曝光描绘部的位置基准,上述多个标记形成单元将对准标记形成在载置于该描绘台上的基板的反面上。

上述描绘台例如由台主体以及位于该台主体上的盖板构成,上述标记形成单元可由下述部分构成:贯穿设置在上述盖板上的至少一个贯通孔;以及由上述台主体支承的标记形成光源,上述标记形成光源从上述贯通孔射出标记形成光。

可以在上述盖板上贯穿设置多个形成上述标记形成单元的上述贯通孔,上述台主体可具备标记形成光源,上述标记形成光源向上述多个贯通孔中的被选择的贯通孔射出标记形成光。

具体而言,上述基准标记以及标记形成单元可以位于载置在上述描绘台上的基板的周缘部的相对的两边,且各自配备有一对。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ORC制作所,未经株式会社ORC制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510354272.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top