[发明专利]用于去除光刻胶溶剂的装置在审
| 申请号： | 201510355609.5 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN104880916A | 公开（公告）日： | 2015-09-02 |
| 发明（设计）人： | 吴利峰;李启明;黄聪;徐先华;方仲贤;熊燕军 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 胶溶 装置 | ||
1.用于去除光刻胶溶剂的装置，其特征在于，包括能够容纳涂覆有光刻胶的待处理的玻璃板的微波谐振腔和位于所述微波谐振腔两侧的微波发射机构，
其中，位于所述微波谐振腔中的玻璃板吸收来自所述微波发射机构的微波形式的能量，以烘烤去除所述玻璃板上的光刻胶溶剂。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微波发射机构包括：
磁控管，
用于引导来自所述磁控管的微波的矩形波导器件，以及
用于将所述微波发射到所述微波谐振腔中的天线。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述磁控管所产生的微波频率位于2GHz-3GHz的范围内。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述磁控管所产生的微波频率为2.45GHz。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微波谐振腔中设置有多个用于支撑所述玻璃板的支撑平台。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述支撑平台包含聚四氟乙烯或花岗岩。
7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微波谐振腔设置有用于观测玻璃板加热状况的观察窗。
8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述微波谐振腔设置有用于排放加热废气和/或烟雾的排气风扇和排放口。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述微波谐振腔的壳体之外设置有百叶窗，所述百叶窗用于开关送入玻璃板的通道。
10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，在所述百叶窗和所述微波谐振腔的壳体之间设置有用于将微波锁定在内部的微波抗流结构。
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