[发明专利]用于去除光刻胶溶剂的装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种用于去除光刻胶溶剂的装置。

背景技术

在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的彩膜基板的前烘工艺中，通常通过热传导的方式来将有机光刻胶(PR,photo resist)中的溶剂去除。在这种方式中，热量由热盘(HP,hot plate)经玻璃板传导至光刻胶(PR,photo resist)膜后使有机溶剂挥发，经过处理时间后再由冷盘(CP,cold plate)将玻璃板冷却至室温。

在现有技术中，原有的电加热的传导热量总是由表及里地传递以加热光刻胶，是以光刻胶中不可避免地存在温度梯度，故光刻胶的受热并不均匀，致使光刻胶中出现局部过热。

综上所述，在传统的预烘模式下，大尺寸的玻璃板通过热传导会产生光刻胶受热不均的弊端；连带造成的处理时间延长对产线的节拍时间(tact time)的提高也会产生不利影响；另外，受热不均还会导致在玻璃板中产生内应力，玻璃板破损的机率也会相应增加。

发明内容

为了避免产生玻璃板的受热不均、改善玻璃板的破损状况及减少处理时间，本申请通过提出了一种用于去除光刻胶溶剂的装置。

要想在玻璃板本体无温度变化的同时去除光刻胶溶剂并且固化光刻胶，则需要解决以下三个问题：1)对光刻胶微波谐振腔及微波传输线路进行合理设计；2)使得玻璃板不作为光刻胶膜及热盘之间的热传导介质而存在；3)使得光刻胶本身能有效吸收微波而发热。

本发明提出了一种用于去除光刻胶溶剂的装置，其包括能够容纳涂覆有光刻胶的待处理的玻璃板的微波谐振腔和位于所述微波谐振腔两侧的微波发射机构，其中，位于所述微波谐振腔中的玻璃板吸收来自所述微波发射机构的微波形式的能量，以烘烤去除所述玻璃板上的光刻胶溶剂。如此地，使得玻璃板不作为光刻胶膜及热盘之间的热传导介质而存在，同时使得光刻胶本身能有效吸收微波而发热。

优选地，所述微波发射机构包括：磁控管，用于引导来自所述磁控管的微波的矩形波导器件，以及用于将所述微波发射到所述微波谐振腔中的天线。如此，对光刻胶微波谐振腔及微波传输线路进行了合理设计。

优选地，所述磁控管所产生的微波频率位于2GHz-3GHz的范围内。

优选地，所述磁控管所产生的微波频率为2.45GHz。

优选地，所述微波谐振腔中设置有多个用于支撑所述玻璃板的支撑平台。

优选地，所述支撑平台包含聚四氟乙烯或花岗岩。聚四氟乙烯或花岗岩的介电常数较小，不会造成大规模的能量耗损。

优选地，所述微波谐振腔设置有用于观测玻璃板加热状况的观察窗。如此地，可以随时监控正在处理的玻璃板的光刻胶加热状况。

优选地，所述微波谐振腔设置有用于排放加热烟雾的排气风扇和排放口。如此可以及时排除加热造成的烟雾。

优选地，在所述微波谐振腔的壳体之外设置有百叶窗，所述百叶窗用于开关送入玻璃板的通道。

优选地，在所述百叶窗和所述微波谐振腔的壳体之间设置有用于将微波锁定在内部的微波抗流结构。如此可以防止微波泄露到微波谐振腔之外，对设备或操作者造成伤害。

本申请所提出的微波加热技术与传统加热方式不同，它是通过使得被加热体内部偶极分子进行高频往复运动，产生“内摩擦热”而使被加热物料温度升高，不须任何热传导过程。这就能使物料内外部同时加热、同时升温，加热速度快且均匀，仅需传统加热方式的能耗的几分之一或几十分之一就可达到加热目的。

本申请通过设计包括微波谐振腔(加热腔)、微波源及微波传输线路的技术手段，淘汰了现有技术中前烘设备在热传导方式下需要同时设立热盘和冷盘的方案，避免了过长的工艺时间对产能提升的不利影响。

本发明的装置与传统的热传导方式的前烘设备相比较，具有制程时间短、工艺条件易控的优点，同时可避免由于玻璃板的升降温而产生的应力。通过对光刻胶进行选择性的加热，光刻胶的有机溶剂去除效果好。由于使用多个微波源对一个微波谐振腔进行辐射，并且能同时处理多张玻璃板，不仅极大提升了设备本身的节拍时间，也便于清洁维护。

上述技术特征可以各种适合的方式组合或由等效的技术特征来替代，只要能够达到本发明的目的。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本发明进行更详细的描述。其中：

图1示意性显示了根据本发明的用于去除光刻胶溶剂的装置；

图2示意性显示了图1的装置中的矩形波导器件内部的电磁场；