[发明专利]一种显影装置及显影方法、曝光装置有效
| 申请号： | 201510358739.4 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN104898381B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 姚宇环 | 申请（专利权）人： | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201201 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显影 装置 方法 曝光 | ||
1.一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。
2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述缓冲膜是复合材料，至少包括氧化石墨烯与壳聚糖。
3.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述缓冲膜通过粘结胶贴附在所述内壁上。
4.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述光刻胶在所述显影液中的浓度为0.5mg/L-1.5mg/L；所述缓冲膜中光刻胶的浓度为1mg/L。
5.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述内壁包括四个表面，其中，至少一个所述表面设置有所述缓冲膜。
6.一种显影方法，应用于权利要求1所述的显影装置，其特征在于，将所述缓冲膜浸泡在光刻胶浓度为1mg/L的第一显影液中，将浸泡后的所述缓冲膜贴附在所述内壁上；
在贴附有所述缓冲膜的所述箱体内加入一定量的所述显影液；
将待显影样品放入所述箱体内的所述显影液中进行显影。
7.据权利要求6所述的显影方法，其特征在于，将所述缓冲膜贴附在所述内壁上之前，还包括，在浸泡后的所述缓冲膜上涂附粘结胶，所述缓冲膜通过所述粘结胶贴附在所述内壁上。
8.据权利要求6所述的显影方法，其特征在于，将所述缓冲膜贴附在所述内壁上之前，还包括，在所述内壁上涂附粘结胶，所述缓冲膜通过所述粘结胶贴附在所述内壁上。
9.根据权利要求6所述的显影方法，其特征在于，所述缓冲膜在所述第一显影液中浸泡的时间大于或等于8小时。
10.根据权利要求6所述的显影方法，其特征在于，所述缓冲膜是复合材料，至少包括氧化石墨烯与壳聚糖。
11.根据权利要求6所述的显影方法，其特征在于，所述光刻胶在所述显影液中的浓度为0.5mg/L-1.5mg/L；所述缓冲膜中光刻胶的浓度为1mg/L。
12.一种曝光装置，包括如权利要求1所述的显影装置。
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