[发明专利]一种显影装置及显影方法、曝光装置

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示技术，特别涉及一种显影装置，及其显影方法，以及包括该显影装置的曝光装置。

背景技术

显示面板目前被广泛的应用于手机、掌上电脑(Personal Digital Assistant,PDA)等便携式电子产品中，例如：薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)、有机发光二级管显示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)、低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon,LTPS)显示器以及等离子体显示器(Plasma Display Panel,PDP)等。在显示面板上制备电路等图形时，需要采用曝光装置对显示面板的基板上涂布的材料进行曝光、显影等处理。而在显影过程中，基板上会涂布有光刻胶，当基板浸泡在显影液中时，基板上的光刻胶会有一部分被溶解在显影液中，光刻胶的存在相当于显影过程的催化剂，光刻胶的溶解不影响显影液中显影成分的浓度，但会与显影液中的有效显影成分共同作用使得基板上光刻胶更易于溶解，提高显影能力，光刻胶的存在会有两方面影响：(1)光刻胶的浓度在达到一定范围之前，浓度越高越好，这样的好处是提高显影能力，缩短基板显影时间，节省显影液的用量；(2)光刻胶的浓度也不是越高越好，光刻胶浓度越高显影能力越不稳定，容易造成产品不合格。所以，显影液浓度保持在一个稳定的范围内比较好。

目前，显影系统的调节方法为，当显影液中光刻胶的浓度过低时，作货之前要先跑带光刻胶的试验基板，使得基板上的光刻胶溶解一部分到显影液中，提升光刻胶的浓度；当显影液中光刻胶的浓度过高时，显影能力过强，排掉一部分旧显影液，充入新的显影液，使得曝光装置中显影液被稀释，光刻胶的浓度下降，而显影系统中有效显影成分浓度不发生变化，调节显影能力。但是在这种控制系统中光刻胶的浓度波动频繁，需要不断的排走旧显影液并补充新的显影液，缺点是影响生产效率，并且浪费显影液，增加生产成本。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显影装置，包括箱体和显影液，所述显影液盛放在所述箱体内，其特征在于，所述箱体包括内壁，所述内壁上设置有缓冲膜，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。

本发明实施例还提供一种显影方法，应用于如上所述的显影装置，其特征在于，

将所述缓冲膜浸泡在光刻胶浓度为1mg/L的第一显影液中，将浸泡后的所述缓冲膜贴附在所述内壁上；

在贴附有所述缓冲膜的所述箱体内加入一定量的所述显影液；

将待显影样品放入所述箱体内的所述显影液中进行显影。

本发明实施例还提供一种曝光装置，包括如上所述的显影装置。

本发明实施例提供的显影装置及显影方法和曝光装置具有以下有益效果：

1.解决显影系统中光刻胶浓度不稳定对显影液显影能力的影响；

2.缓冲膜能够调节显影液的浓度，使得显影液中光刻胶的浓度维持在一定的范围，以避免显影液中光刻胶浓度过高或者过低，而需要加入新的显影液，从而可以减少显影液的使用量，节约成本；并且缓冲膜中的壳聚糖能起到抑制细菌作用，提高待显影样品的质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的显影装置的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种显影方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种显影装置，如图1所示，包括箱体1和显影液(图中未示出)，所述显影液盛放在所述箱体1内，所述箱体1包括内壁2，所述内壁2上设置有缓冲膜3，所述显影液包括光刻胶，所述缓冲膜能够调节所述显影液中光刻胶的浓度。