[发明专利]一种倒装芯片键合的预对准系统及方法有效
申请号: | 201510363265.2 | 申请日: | 2015-06-26 |
公开(公告)号: | CN105006445B | 公开(公告)日: | 2017-11-07 |
发明(设计)人: | 唐亮;李恺;叶乐志 | 申请(专利权)人: | 北京中电科电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,安利霞 |
地址: | 100176 北京市经*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 倒装 芯片 对准 系统 方法 | ||
技术领域
本发明涉及倒装芯片键合技术领域,尤其涉及一种倒装芯片键合的预对准系统及方法。
背景技术
随着全球电子信息技术的迅猛发展,集成电路芯片不断向高密度、高性能和轻薄短小的方向发展,为满足IC(Integrated Circuit,集成电路)封装要求,芯片上的凸点数量将会越来越多。随着凸点数量的增多,对现有装片类设备提出了挑战,其中一个主要的难题是高密度,小间距凸点的芯片如何高精度装片。
目前装片类设备中一般是拾取芯片蘸胶后直接完成装片,但这种方式存在一个主要问题:拾取芯片后不经过预对准直接装片,所以无法消除拾取时可能存在的微小偏差,使得装片的精度很难提高。因此,在芯片键合前,对芯片进行预对准是一个非常关键的步骤。
发明内容
为了克服上述技术问题,本发明提供了一种倒装芯片键合的预对准系统及方法,消除了芯片蘸胶过程中可能产生的微小偏差,大大提高了设备的精度,满足了高精度装片的要求。
为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
依据本发明的一个方面,提供了一种倒装芯片键合的预对准系统,该预对准系统包括:
安装于工作台上的倒装芯片蘸胶结构,倒装芯片蘸胶结构包括:用于倒装芯片进行蘸胶的蘸胶板;与蘸胶板两侧滑动连接的机械滑轨;与机械滑轨电连接、用于驱动机械滑轨滑动的电机;
安装于工作台上的上视光学结构,上视光学结构包括:固定于机械滑轨之间、且位于蘸胶板下方的转折棱镜;用于获取倒装芯片图像的工业相机;其中,转折棱镜与工业相机通过工业相机的镜头进行连接,以及
位于蘸胶板上方、用于拾取倒装芯片的倒装芯片贴装头;
其中,倒装芯片贴装头拾取一倒装芯片,并按照第一运动轨迹运动到蘸胶板上方进行蘸胶,倒装芯片蘸胶完成后,倒装芯片贴装头向上抬起,同时机械滑轨带动蘸胶板按照第二运动轨迹避开转折棱镜滑动,然后由上视光学结构对蘸胶后的倒装芯片进行预对准。
可选地,转折棱镜为直角棱镜。
可选地,转折棱镜的中点、倒装芯片贴装头以及未按照第二运动轨迹滑动前蘸胶板的中心位于同一直线上,并与第一运动轨迹的运动方向平行。
可选地,转折棱镜的中点位于镜头的中心轴线上,且镜头的中心轴线与第二运动轨迹的运动方向平行。
可选地,工业相机为黑白千兆网工业相机。
可选地,镜头为变倍镜头或者定倍镜头。
依据本发明的另一个方面,提供了一种倒装芯片键合的预对准方法,应用于上述的倒装芯片键合的预对准系统,该预对准系统包括:安装于工作台上的倒装芯片蘸胶结构,倒装芯片蘸胶结构包括:用于倒装芯片进行蘸胶的蘸胶板;与蘸胶板两侧滑动连接的机械滑轨;与机械滑轨电连接、用于驱动机械滑轨滑动的电机;安装于工作台上的上视光学结构,上视光学结构包括:固定于机械滑轨之间、且位于蘸胶板下方的转折棱镜;用于获取倒装芯片图像的工业相机;其中,转折棱镜与工业相机通过工业相机的镜头进行连接,以及位于蘸胶板上方、用于拾取倒装芯片的倒装芯片贴装头,
其中,该预对准方法包括:
由倒装芯片贴装头拾取一倒装芯片,并按照第一运动轨迹运动到蘸胶板上方进行蘸胶;
倒装芯片蘸胶完成后,倒装芯片贴装头向上抬起,同时由机械滑轨带动蘸胶板按照第二运动轨迹避开转折棱镜滑动;
由上视光学结构对蘸胶后的倒装芯片进行预对准。
可选地,由上视光学结构对蘸胶后的倒装芯片进行预对准,具体包括:
通过工业相机获取由转折棱镜折射倒装芯片的光线所形成的倒装芯片的图像;
将图像与预设图像模板进行预对准,若预对准结果在预设相似度范围内,则倒装芯片合格;若预对准结果超出预设相似度范围,则倒装芯片不合格。
可选地,预设相似度范围为90%~95%。
本发明的有益效果是:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中电科电子装备有限公司,未经北京中电科电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510363265.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:金属接触结构及其形成方法
- 下一篇:FinFET器件的结构及其形成方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造