[发明专利]一种过滤除菌膜及其制备方法

权利要求书

1.一种过滤除菌膜，其特征在于，主要由以下原料按质量份数配比制成：次氯酸钠12～25份、季铵盐8～20份、戊二醛12～23份、过氧乙酸8～22份、丝素12~30份、丝胶12~20份、聚四氟乙烯18～35份、碳酸钠7～14份、去离子水25~60份。

2.根据权利要求1所述的一种过滤除菌膜，其特征在于，主要由以下原料按质量份数配比制成：次氯酸钠22份、季铵盐18份、戊二醛17份、过氧乙酸16份、丝素24份、丝胶16份、聚四氟乙烯28份、碳酸钠12份、去离子水55份。

3.权利要求1所述的一种过滤除菌膜的制备方法，其特征在于，包含以下步骤：

（1）将次氯酸钠、季铵盐、戊二醛和过氧乙酸按质量比0.5～3:2~5:4~6:7~9溶于去离子水中，制成基液；

（2）将丝素、丝胶、碳酸钠溶于去离子水中，搅拌至完全溶解；

（3）将聚四氟乙烯置于反应釜中，在温度为620~800℃、压力为1.9~3.6MPa的条件下制成熔融物，并经干燥、粉碎制成粉末，粒径为50~100纳米；

（4）将步骤（3）中获得的纳米颗粒加入步骤（1）的基液中，在温度为620~800℃、转速为2000~3000转/分钟条件下搅拌，边搅拌边向其中加入步骤（2）获得的混合溶液，直至粘稠状膏体；

（5）将步骤（4）获得的混合物涂布于模具中，在620~800℃、1.9~3.6MPa条件下压制成型，制得过滤除菌膜。

4.根据权利要求3所述的一种过滤除菌膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中将次氯酸钠、季铵盐、戊二醛和过氧乙酸按质量比1:4:5:8溶于去离子水中，制成基液。

5.根据权利要求3所述的一种过滤除菌膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）中将聚四氟乙烯置于反应釜中，在温度为760℃、压力为3.3MPa的条件下制成熔融物，并经干燥、粉碎制成粉末，粒径为80纳米。

6.根据权利要求3所述的一种过滤除菌膜的制备方法，其特征在于，步骤（4）中将步骤（3）中获得的纳米颗粒加入步骤（1）的基液中，在温度为760℃、转速为2800转/分钟条件下搅拌，边搅拌边向其中加入步骤（2）获得的混合溶液，直至粘稠状膏体。

7.根据权利要求3所述的一种过滤除菌膜的制备方法，其特征在于，步骤（5）中将步骤（4）获得的混合物涂布于模具中，在760℃、3.3MPa条件下压制成型，制得过滤除菌膜。