[发明专利]甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用在审
| 申请号： | 201510376808.4 | 申请日： | 2015-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN104997787A | 公开（公告）日： | 2015-10-28 |
| 发明（设计）人： | 王静;侯楠;刘玉兰;朱秋珍;程浩;柴逸峰;高越;章越凡;李铁军;芮耀诚 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军第二军医大学 |
| 主分类号： | A61K31/56 | 分类号： | A61K31/56;A61P17/16;A61P39/00;A23L1/29;A23L2/52;A23L2/38 |
| 代理公司： | 上海元一成知识产权代理事务所(普通合伙) 31268 | 代理人： | 赵青 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 甘草 制备 辐射 产品 中的 应用 | ||
【权利要求书】：
1.甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用。
2.根据权利要求1所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的抗辐射产品为预防或治疗辐射损伤的药物、保健食品，或保健饮料。
3.根据权利要求2所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的药物为甘草次酸作为唯一活性成份或包含甘草次酸的药物组合物。
4.根据权利要求3所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的药物中，甘草次酸的含量为>50％。
5.根据权利要求3所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的药物中，甘草次酸按常规药剂学制成各种药物剂型。
6.根据权利要求5所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的剂型为片剂、胶囊剂、颗粒剂、混悬剂、乳剂、溶液剂、糖浆剂、膏剂、贴剂或注射剂。
7.根据权利要求1至6任一所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的辐射为核辐射、电离辐射。
8.根据权利要求1至6任一所述的甘草次酸在制备抗辐射产品中的应用，其特征在于，所述的辐射为γ射线辐射。
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