[发明专利]一种原子力显微镜检测单分子水平分子间相互作用的方法

权利要求书

1.一种原子力显微镜用于检测单分子水平分子间相互作用的方法，其特征是：在基底表面修饰DNA1和在AFM探针上修饰DNA2；当AFM探针与基底表面靠近时，通过DNA1与DNA2的互补杂交，形成DNA1/DNA2双链结构；采用切刻内切酶特异性识别双链DNA1/DNA2中的特定序列，并将单链DNA1切断；然后采用原子力显微镜检测DNA之间的作用力，从而检测出DNA双链在切刻内切酶剪切前后DNA之间相互作用力的变化。

2.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述AFM探针修饰DNA2的具体方法是：将AFM探针进行羟基化修饰，得到羟基修饰的AFM探针，然后活化羟基修饰的AFM探针，将活化后的AFM探针与氨基修饰的DNA2进行固定反应，取出AFM探针，对AFM探针进行后处理。

3.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述基底表面上修饰DNA1的具体方法是：基底采用金基底，首先预处理金基底，然后将处理好的金基底与巯基修饰的DNA1进行固定反应，37℃反应3小时以上。

4.如权利要求1所述的方法，其特征是，所述采用原子力显微镜检测DNA之间的作用力的具体方法是：将缓冲溶液3滴在修饰有DNA1的金基底上，将液滴固定在原子显微镜的扫描器上，测DNA之间的相互作用力F1；使用切刻内切酶时，将含有1×切刻内切酶缓冲液、切刻内切酶和所述缓冲溶液3的混合溶液，滴加到金基底上，将液滴固定在原子显微镜的扫描器上，测DNA之间的相互作用力F2；从而检测出DNA双链在切刻内切酶剪切前后DNA之间相互作用力的变化。

5.如权利要求2所述的方法，其特征是：所述羟基化修饰的过程为：将AFM探针浸泡在浓硫酸和双氧水的混合溶液中30分钟，去离子水洗净，得到羟基修饰AFM探针。

6.如权利要求2所述的方法，其特征是：所述活化过程为：将羟基修饰的AFM探针浸泡在200μl浓度为100mM N-羟基琥珀酰亚胺(NHS)溶液中，避光放置30分钟后，去离子水冲洗干净。

7.如权利要求2所述的方法，其特征是：后处理的过程为：先用缓冲溶液2冲洗三次，再用去离子水洗净，空气中干燥30分钟；所述缓冲液2的组成：300mM NaCl，20mM Na₂HPO₄，2mM乙二胺四乙酸，7mM十二烷基硫酸钠，pH＝7.4；作用：用于清洗AFM探针。

8.如权利要求2所述的方法，其特征是：所述固定反应的过程为：将修饰有DNA2的AFM探针浸泡在200μl浓度为1μM的氨基修饰DNA2溶液中，25℃反应12小时以上。

9.如权利要求3所述的方法，其特征是：所述预处理金基底的过程为：将金基底清洗、干燥；进一步具体的过程为：用清洗液浸泡超声10分钟，去离子水冲洗干净，氮气吹干；所述清洗液为：氨水和双氧水的混合溶液，其中水：氨水：双氧水的体积比为5:1:1。

10.如权利要求3所述的方法，其特征是：所述固定反应过程为：将处理好的金基底浸泡在1ml浓度为1μM的巯基修饰DNA1中进行固定反应。